[发明专利]Bi2223氧化物超导体及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201080039818.4 申请日: 2010-08-05
公开(公告)号: CN102482112A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 畳谷和晃;绫井直树;下山淳一 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C01G1/00 分类号: C01G1/00;C01G29/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: bi2223 氧化物 超导体 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及Bi2223氧化物超导体及其制造方法,并且详细地,涉及在低温磁场中具有高临界电流密度且即使在液氮温度(77K)下的自磁场中也能够保持高临界电流密度的Bi2223氧化物超导体及其制造方法。

背景技术

近年来,已经报道了烧结氧化物材料在高临界温度下显示超导性能,并且已经促进了使用这些超导体的超导技术的实际应用。在这些氧化物超导体中,已知Bi(铋)基氧化物超导体为具有高临界电流密度的材料,并且在Bi(铋)基氧化物超导体中,由(Bi、Pb)2-Sr2-Ca2-Cu3构成的Bi2223氧化物超导体引人注目,因为由于更高的取向而能够制造具有高临界电流密度的线材。

然而,Bi2223氧化物超导体具有由平行于c轴方向的磁场施加而大大耗竭临界电流密度的问题。对于此问题,通过用Ln(镧系)元素如La置换进行尝试以提高磁场中的临界电流密度。

具体地,如在专利文献1中公开的,通过用10%以上的稀土元素置换Bi基氧化物而制造的Bi2223氧化物超导体显示改进的磁场中的临界电流密度。然而,所述Bi2223氧化物超导体具有降低在77K的自磁场中的临界电流密度的新问题。

专利文献2也公开了用Ln元素置换的Bi基氧化物超导体。然而,在专利文献2中包括的Bi基氧化物超导体是Bi2212氧化物超导体,因此不能获得充分的临界电流密度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特许第2749194号公报

专利文献2:日本特开平05-319827号公报

发明内容

技术问题

考虑到上述问题,本发明的目的是提供在低温磁场中具有高临界电流密度且即使在77K的自磁场中也能够保持高临界电流密度的Bi2223氧化物超导体,并提供其制造方法。

解决问题的手段

本发明人对用Ln置换的Bi2223氧化物超导体进行了各种研究以解决上述问题。结果,本发明人发现,因为置换量大至10%以上,所以用Ln置换的常规Bi2223氧化物超导体容易引起异相的聚集,并且在77K的自磁场中的临界电流密度因所述异相聚集而降低。

因此,对恰当的Ln置换量进行了进一步研究,结果发现,当Ln置换量为0.2~1.5%时,可以得到在低温磁场中具有高临界电流密度并且即使在77K的自磁场中也能够保持高临界电流密度的Bi2223氧化物超导体,从而完成了本发明。

即,本发明的第一方面涉及一种Bi2223氧化物超导体,其由Bi、Pb、Sr、Ln、Ca、Cu和O构成,其中所述Ln为选自La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu中的至少一种,并且作为该Bi2223氧化物超导体的特征,所述Sr与所述Ln的组成比为以下组成比。

Sr∶Ln=(1-x)∶x    (其中0.002≤x≤0.015)

在本发明的第一方面中,如上所述,因为Ln置换量与常用量相比较小,所以抑制了异相的聚集。结果,可以获得在低温磁场中具有高临界电流密度并且即使在77K的自磁场中也能够保持高临界电流密度的Bi2223氧化物超导体。

然而,所述Bi2223氧化物超导体虽然具有一定的效果但不能完全防止异相聚集。

因此,作为进一步深入研究的结果,本发明人发现,异相的聚集能够通过使用制造Ln置换的Bi2223氧化物超导体的方法来完全防止,所述方法包括:使含有构成所述Bi2223氧化物超导体的元素的材料在溶液中离子化的步骤;和通过将所述溶液喷射到高温气氛中来除去溶剂并引起热分解反应,从而制造含有构成所述氧化物超导体的原子的粉末的步骤,由此能够提供在低温磁场中具有高临界电流密度并且即使在77K的自磁场中也能够保持高临界电流密度的Bi2223氧化物超导体。

即,包含构成Bi2223氧化物超导体的元素的材料在溶液中离子化,从而使得溶液中的元素能够以离子水平微细混合。另外,将所述溶液喷射到高温气氛中以除去溶剂并引起热分解反应,从而使得能够制造含有构成氧化物超导体的原子的粉末。结果,所述元素能够均匀地分散而不会偏析和聚集,因此使得Ln可存在于由煅烧粉末形成的Bi2223氧化物晶粒中。因为存在于Bi2223氧化物晶粒中的Ln能够在Bi2223氧化物晶粒中起钉扎的功能,所以能够在低温磁场中获得高临界电流密度并且即使在77K的自磁场中也保持高临界电流密度。

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