[发明专利]光扩散偏光片、光扩散偏光片的制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种光扩散偏光片，其特征在于，包括：

偏振片，其具备隔着第一粘接层粘贴有第一保护层的偏光层；和

光扩散层，其具备使从所述偏振片侧入射并在其厚度方向上透过的光扩散的光扩散部，且设置于所述偏光层的背对着所述第一保护层的面。

2.如权利要求1所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述光扩散层直接设置在所述偏光层上。

3.如权利要求1所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述偏振片，在所述偏光层与所述光扩散层之间，还具备隔着第二粘接层粘贴于所述偏光层的第二保护层。

4.如权利要求1所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述光扩散层，在所述偏光层与所述光扩散部之间，还具备支承所述光扩散部的基底部。

5.如权利要求1所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述光扩散层，在所述光扩散部中背对着设置有所述偏光层的面的面上，还具备支承所述光扩散部的基底部。

6.如权利要求1至5中任一项所述的光扩散偏光片，其特征在于：

在所述光扩散部，设置有从背对着所述偏光层的面起向所述偏光层侧凹陷的多个凹部，利用将背对着所述偏光层的面和与所述偏光层相对的面贯穿的面来切断该凹部时的截面形状，是与所述偏光层相对的面一侧逐渐变细的大致V字形状。

7.如权利要求6所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述凹部内，填充有折射率低于所述光扩散部的所述凹部以外的部分的折射率、且高于空气的折射率的透光性材料。

8.如权利要求6所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述凹部内，填充有折射率低于所述光扩散部的所述凹部以外的部分的折射率、且高于空气的折射率的遮光性材料。

9.如权利要求6所述的光扩散偏光片，其特征在于：

所述凹部内填充有气体。

10.一种光扩散偏光片的制造方法，其特征在于：

包括光扩散层形成工序，在具备隔着第一粘接层粘贴有第一保护层的偏光层的偏振片中，在所述偏光层的背对着所述第一保护层的面上，形成具备使从所述偏振片侧入射并在其厚度方向上透过的光扩散的光扩散部的光扩散层。

11.如权利要求10所述的光扩散偏光片的制造方法，其特征在于：

在所述光扩散层形成工序之前还包括第二保护层形成工序，在所述偏振片的所述偏光层中背对着所述第一保护层的面上，隔着第二粘接层形成第二保护层，

在所述光扩散层形成工序中，在所述第二保护层上形成光扩散层。

12.如权利要求10所述的光扩散偏光片的制造方法，其特征在于：

在所述光扩散层形成工序中，在所述偏光层上形成高折射率材料层，在该高折射率材料层中背对着所述偏光层的面上，形成向所述偏光层侧凹陷的多个凹部，并在该凹部内填充低折射率材料，由此形成所述光扩散层。

13.如权利要求10所述的光扩散偏光片的制造方法，其特征在于：

在所述光扩散层形成工序中，在所述偏光层上形成高折射率材料层，在该高折射率材料层中背对着所述偏光层的面上，形成向所述偏光层侧凹陷的多个凹部，并在该凹部内填充有气体的状态下，使用基底膜将该凹部覆盖，由此形成所述光扩散层。

14.如权利要求10所述的光扩散偏光片的制造方法，其特征在于：

还包括：

在基底膜上使用低折射率材料形成凸部的工序；和

以覆盖所述凸部的方式在所述基底膜上形成高折射率材料层的工序，

在所述光扩散层形成工序中，通过在所述偏光层上粘贴所述高折射率材料层来形成所述光扩散层。

15.一种显示装置，其特征在于：

具备液晶面板，该液晶面板包括：

权利要求1～9中任一项所述的光扩散偏光片；和

粘贴在所述光扩散偏光片上的液晶单元层。