[发明专利]具有防静电涂层的光学装置

权利要求书

1.一种光学装置，包括至少一个光学层和至少一个防静电层，所述至少一个防静电层设置在所述光学层的至少一个表面上，其中所述防静电层包含以下物质的反应产物：(a)至少一种可聚合鎓盐和(b)至少一种含有非鎓的可聚合有机硅或全氟聚醚部分的单体、低聚物或聚合物。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述鎓盐包括具有含氟有机阴离子的鎓盐。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述鎓盐选自铵盐、锍盐、鏻鎓盐、吡啶鎓盐和咪唑鎓盐。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述鎓盐具有下式：

(R¹)_a-bG⁺[(CH₂)_qDR²]_bX^-

其中

每一个R¹都独立地包含烷基、脂环、芳基、烷基脂环、烷芳基、脂环烷基、芳基脂环或脂环芳基部分，其中这种部分可包含一个或多个杂原子，例如为氮、氧或硫，或者可包含磷或卤素(因此本质上可为含氟有机的)；

G为氮、硫或磷；

当G为硫时a为3，当G为氮或磷时a为4；

当G为硫时b为1至3的整数，当G为氮或磷时b为1至4的整数；

q为1至4的整数；

D为氧、硫或NR，其中R为H或具有1至4个碳原子的低级烷基；

R²为(甲基)丙烯酰基；以及

X^-为阴离子。

5.根据权利要求4所述的光学装置，其中X^-为选自以下物质的阴离子：烷基硫酸盐、甲烷磺酸盐、甲苯磺酸盐、含氟有机物、含氟无机物和卤化物。

6.根据权利要求4所述的光学装置，其中X^-为含氟化合物阴离子。

7.根据权利要求4所述的光学装置，其中X^-选自-C(SO₂CF₃)₃、-O₃SCF₃、-O₃SC₄F₉和-N(SO₂CF₃)₂。

8.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述鎓盐具有下式之一：

9.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述可聚合有机硅单体、低聚物或聚合物为具有聚二甲基硅氧烷(PDMS)主链和带有(甲基)丙烯酸酯端基的烷氧基侧链的材料。

10.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述光学层选自反射型偏振片、增亮膜和漫反射偏振膜。

11.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述防静电层为外层。

12.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述防静电层具有哑光性质。

13.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述防静电层还包括珠子或粒子。

14.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述防静电层包含以下物质的反应产物：(a)，(b)，和(c)至少一种非鎓的可聚合非有机硅单体、低聚物或聚合物。

15.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述防静电层通过以下方式形成：(1)提供液体涂料组合物，所述液体涂料组合物包含：(a)所述至少一种鎓盐，(b)所述至少一种含有非鎓的可聚合有机硅或全氟聚醚部分的单体、低聚物或聚合物，和任选的(c)至少一种非有机硅非全氟聚醚的单体、低聚物或聚合物；(2)将所述液体涂料组合物施用至所述光学层的所述表面；以及(3)原位固化所述液体涂料组合物，以形成所述防静电层。