[发明专利]阳离子相容性金属氧化物和含有金属氧化物的口部护理组合物

说明书

发明领域

本发明涉及阳离子相容性改性金属氧化物和在口部护理组合物中制备和使用改性金属氧化物的方法。特别地，本发明涉及含有阳离子相容性改性金属氧化物和阳离子抗菌剂的口部护理组合物，和制备和使用所述组合物的方法。

发明背景

口部护理组合物，如洁牙剂，经常含有摩擦物用于牙齿的受控机械清洁和抛光。金属氧化物颗粒，如二氧化硅，经常用作口部护理组合物的摩擦剂。例如，将二氧化硅的摩擦作用在洁牙剂中用于除去牙齿的表膜。大多数用于洁牙剂的常规二氧化硅都具有带负电荷的表面。

越来越期望将抗微生物剂掺入口部护理组合物中用于控制臭气和/或其它治疗作用。西吡氯铵(“CPC”)经常作为抗微生物剂用于该目的。CPC是带阳离子(“正性”)电荷的化合物。一般理解CPC的抗微生物作用源自其能够与口中存在的细菌细胞上带负离子(“负性”)电荷的蛋白部分结合。这种CPC附着机制导致细菌的正常细胞功能破坏，有助于预防菌斑形成及其它细菌作用。

将CPC用于口部护理组合物遇到的问题是CPC趋向于不加区别地与带负电荷的表面结合。例如，金属氧化物颗粒，如经常作为摩擦剂用于口部护理组合物的二氧化硅颗粒，具有带负电荷的表面，可能与CPC结合。一旦与金属氧化物颗粒或其它带负电荷的辅助成分结合，CPC一般无法发挥任何有意义的抗微生物作用。

几项专利公开已描述用于制备CPC相容性口部护理组合物的组合物和方法。

例如，美国专利号6,355,229描述含有瓜尔胶羟丙基三甲基氯化铵的CPC相容性洁牙剂制剂。该瓜尔胶复合物对结合于带负电荷的物种具有比CPC更高的亲和力。它优先与阴离子组分结合，剩下CPC自由地结合于菌斑。

WO2004/073539A公开包含多孔二氧化硅颗粒的沉淀二氧化硅，所述颗粒对所有具有大于直径的孔具有小于8m²/g的累积表面积和大于约55％的CPC相容性百分数。沉淀二氧化硅产物非常适合用于含有CPC的洁牙剂，因为CPC不附着于低表面积二氧化硅产物。

在工业上仍然需要可与阳离子抗微生物剂比如CPC一起用于口部组合物而不损害各成分各自的功能的金属氧化物。本发明满足这些及其它从下列公开将容易显而易见的需要。

发明概述

现在已发现在口部护理制剂中阳离子分子-金属氧化物不相容的问题可通过使用阳离子相容性，改性金属氧化物组分克服。意外地已发现用必需维生素分子处理带负电荷的金属氧化物颗粒比如二氧化硅充分改变金属氧化物颗粒的表面电荷，以在被处理的金属氧化物颗粒表面上提供基本正电荷。用带正电荷的维生素处理的金属氧化物表面使CPC及其它常用于口部护理组合物的带正电荷成分的吸附或与之反应最小，从而促进抗菌剂和金属氧化物颗粒两者的可用性以发挥它们在口部护理组合物中各自的预期功能。

通过将维生素分子直接固定，如通过反应和/或吸附，在带负表面电荷的金属氧化物颗粒的表面上形成阳离子相容性改性金属氧化物。本发明的维生素处理的金属氧化物特别可作为阳离子相容性摩擦剂或增稠剂用于包含CPC及其它阳离子抗菌剂的口部护理组合物中，如洁牙剂。包含本发明的维生素处理的金属氧化物和一种或多种阳离子活性抗菌剂的口部护理组合物提供以下益处：在人使用或消费过程中增加的相容性和与口部护理组合物组分浸出关联的安全风险降至最小。

因此，本发明的优点是提供与CPC及其它阳离子抗菌剂相容的带负表面电荷的金属氧化物材料。

本发明的优点还是提供包含阳离子相容性金属氧化物的新的口部护理组合物。

本发明的优点还是提供包含阳离子相容性二氧化硅的新的口部护理组合物。

本发明另一个优点是提供包含阳离子相容性金属氧化物和阳离子抗菌剂如CPC的口部护理组合物，其中将金属氧化物与抗菌剂的反应降至最小。

本发明再一个优点是提供包含阳离子相容性二氧化硅和阳离子抗菌剂如CPC的口部护理组合物，其中将二氧化硅与抗菌剂的反应降至最小。

本发明的优点还是提供制备口部护理组合物的方法，所述组合物包含维生素改性的带负表面电荷的金属氧化物如二氧化硅，和阳离子抗菌剂如CPC，其中将金属氧化物与抗菌剂的反应降至最小。

本发明再一个优点是提供使用本发明的组合物和方法的方法。

下文进一步详细描述本发明的这些及其它方面。

发明详述