[发明专利]被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合粒子的制造方法有效
| 申请号： | 201080035167.1 | 申请日： | 2010-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN102471077A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 关野雅人;草野正嗣 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山齿科 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;A61K6/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 被覆 二氧化硅 氧化锆 复合 粒子 制造 方法 | ||
1.一种被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的制造方法，其特征在于，使硅的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物与锆的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物在含水溶剂中反应，所述含水溶剂在反应液中含乙腈10质量％以上，由此得到二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液；
然后，在所述二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液中，使分散于该分散液中的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子与硅的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物反应，由此，用二氧化硅层被覆该二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的表面。
2.权利要求1所述的被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的制造方法，其特征在于，分散在二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液中的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的平均粒径为0.05～1.0μm。
3.权利要求2所述的被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的制造方法，其特征在于，被覆二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子表面的二氧化硅层的厚度为5～30nm。
4.权利要求1所述的被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的制造方法，其特征在于，在二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液中，在含乙腈10质量％以上的反应液中实施用二氧化硅层被覆该二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子表面的反应。
5.一种作为牙科用复合树脂用填充剂的被覆有二氧化硅层的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的制造方法，其特征在于，使硅的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物与锆的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物在含水溶剂中反应，所述含水溶剂在反应液中含乙腈10质量％以上，得到二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液；
然后，在所述二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子分散液中，使分散于该分散液中的二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子与硅的醇盐及/或由该醇盐衍生的可缩合性化合物反应，由此，用二氧化硅层被覆该二氧化硅-氧化锆复合氧化物粒子的表面。
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