[发明专利]物体检查系统和方法有效

专利信息
申请号: 201080034422.0 申请日: 2010-07-02
公开(公告)号: CN102472962A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: V·伊万诺夫;A·邓鲍夫;V·班尼恩;L·斯卡克卡巴拉兹;N·伊欧萨德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G03F1/22;G01N21/64;G01N21/95
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 物体 检查 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种物体检查方法,包括下列步骤:

用辐射束照射物体,

用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射,和

如果检测到时间分辨光谱信号与在没有微粒存在时物体发射的信号不同,则确定存在微粒。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射的步骤包括记录光致发光信号。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中,被检查的物体包括图案形成装置。

4.如权利要求3所述的方法,其中,所述图案形成装置是掩模版或EUV掩模版。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法,还包括用能量分辨光谱分析分析来自所述物体的次级光子发射的步骤。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法,用于确定所述物体的表面上存在的金属、金属氧化物或有机物微粒。

7.如前述权利要求中任一项所述的方法,还包括噪声减小技术。

8.如权利要求7所述的方法,其中,所述噪声减小技术包括用以从所发射的光谱去除噪声的相关技术。

9.如权利要求7所述的方法,其中,所述噪声减小技术包括混沌理论方法。

10.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,用辐射束照射所述物体的步骤包括以垂直入射照射所述物体。

11.如权利要求10所述的方法,其中,使用施瓦兹希尔德型收集器收集辐射。

12.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其中,用辐射束照射所述物体的步骤包括从多于一个方向提供离轴照射。

13.如权利要求12所述的方法,其中,从四个不同的方向提供所述离轴照射。

14.如权利要求12或13所述的方法,其中,所述离轴照射设置为环形辐射束。

15.如权利要求12-14中任一项所述的方法,其中,用辐射束照射所述物体的步骤包括将所述辐射束分成多个分开的束,每个分开的束以相对于其他分开的束不同的角度入射到所述物体上。

16.如前述权利要求中任一项所述的方法,在所述物体的整个第一区域上执行所述方法;并且如果检测到微粒,对于所述第一区域的子部分重复所述方法。

17.如权利要求16所述的方法,包括实施进一步的重复,直到达到想要的空间分辨极限。

18.一种用于检查物体的设备,包括:布置用以发射辐射束到所述物体上的辐射源;和分光计,所述分光计布置成用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射,并且如果检测到的时间分辨光谱信号与在没有微粒时所述物体发射的信号不同,则确定存在微粒。

19.如权利要求18所述的设备,其中,所述分光计布置成相对于光致发光信号分析时间分辨光谱。

20.如权利要求18或19所述的设备,其中,被检查的物体包括图案形成装置。

21.如权利要求20所述的设备,其中,所述图案形成装置是掩模版或EUV掩模版。

22.如权利要求18-21中任一项所述的设备,其中,所述分光计还布置成用时间分辨光谱术分析来自所述物体的次级光子发射。

23.如权利要求18-22中任一项所述的设备,还包括噪声减小模块。

24.如权利要求23所述的设备,其中,所述噪声减小模块包括相关器。

25.如权利要求23所述的设备,其中,所述噪声减小模块包括混沌理论模块。

26.如权利要求18-25中任一项所述的设备,其中,所述辐射源布置成用辐射束以垂直入射照射所述物体。

27.如权利要求26所述的设备,包括用于收集辐射的施瓦兹希尔德型收集器。

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