[发明专利]宽图案喷嘴

说明书

本发明涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的设备。

申请人开发和制造这种类型的设备已经有一段时间了。根据权利要求1的前序部分所述的设备，例如，在EP 0835952A1和EP 0984083A2专利中已有描述，这两个专利属于本申请人。

在已知设备中，通过侧面(lateral)的气流造成流体细流的摆动。因此，在基板上涂敷的图案可以被平整到很大的程度。

在先前已知的设备中，排出口被布置为沿直线，横向于基板的移动方向。多个喷嘴或喷嘴头部可以结合形成任何所需长度的线型行布置。以这种方式，流体细流将沿着涂敷宽度被涂敷到基板上，所述涂敷宽度可以被改变和调整。作为一种规则，涂敷宽度相当于两个最外面排出口的彼此之间的距离。该排出口宽度也可以通过多个喷嘴头被扩大到这种长度的若干倍-和该多个喷嘴头相同的宽度-该多个喷嘴头被布置在彼此旁边。

在来自现有技术的设备中，排出口用于流体而流体开口用于压缩空气替换物(alternate)。也众所周知在所有情况下在两个流体排出口之间设置两个流体开口。

从已知的设备出发，本发明的目的是根据权利要求1前序部分所述的设备进一步通过以下方式开发一种设备：使基板的灵活加工成为可能。

通过权利要求1的特征，本发明实现了这个目的并且，相应地，本发明的特征在于该排出口被沿着弯曲的路径布置。

本发明的原理在于用于流体细流的排出口不再像在现有技术中一样布置为沿直线，而是现在将其布置为沿着弯曲的路径。该弯曲的路径可以例如通过圆弧或椭圆或抛物线来形成。其它具有规则或不规则曲率的弯曲的路径也是合适的。排出口沿其设置的路径可以连续不断地延伸并且连续不断地弯曲。

通过这种特定布置的选择，结果就是某种几何结构，从而多个排出口在任何情况下都从不同的角度瞄准基板表面。

可以有利地对称构造该设备。最靠近基板表面的排出口可以正交地对准基板表面。在此基础上，在任何情况下，与之相邻的排出口可以在直角的基础上增加一个角度差对准基板表面。

因此，本发明使得最外面的排出口以相对于正交的最大可能的角度差对准基板表面。例如，两个外面的排出口可以以相互之间形成70°角度的方式对准基板表面。换句话说，这两个最外面的排出口分别以相对于正交约35°的角度差对准基板表面。于是，最外面的排出口相对于基板表面以90°-35°＝55°的角度倾斜。

本发明包括可以涂敷粘合剂，尤其是热熔粘接剂或其它胶粘物的设备。例如，可以涂敷到硬纸板包装、纸、纺织品或者任何其它所希望的材料上。本发明也包括例如将润肤液涂敷到例如卫生产品，比如尿布上的设备。

本发明包括在其中排出口和流体开口交替布置的设备。在本发明的这种结构中，在任何情况下在两个排出口之间恰好有一个流体开口。

在本发明的可选择的改进设备中，在两个排出口之间具有一对流体开口。换句话说，在这种变体中每个排出口被分配归其所有的一对流体开口。

本发明也包括这样的设备：在这些设备中每个排出口被分配有多于两个的流体开口。

本发明包括在其中排出口和流体开口沿共同的弯曲路径布置的设备。但是，本发明也包括在其中排出口和流体开口沿不同的弯曲路径道布置的设备，例如排出口和流体开口的弯曲路径被布置为彼此偏移。后者是可以想到的，例如，当布置流体开口以使得流体开口相对于排出口稍微偏移时。

在根据本发明的设备中，优选流过流体开口的是压缩空气，以便于使流体细流受到细流振荡或钟摆运动。该细流振荡用于该基板表面的均匀涂敷或者润湿，由于细流振荡，因此细流在基板表面上以波浪线沉积，形成网状结构。也可以使用其它流体，比如气体，来代替使用压缩空气。

在有利的改进设备中，两个最外面的排出口之间形成大于20°的角度。这意味着沿着流体的排出方向通过这两个排出口的虚构的几何线条之间形成20°的角度或更大的角度。在有利的改进设备中，该角度大于30°，在进一步的有利的改进设备中大于40°，在进一步的有利的改进设备中大于50°，在进一步的有利的改进设备中大于60°并且在进一步有利的改进设备中大于70°。在本发明的一个示例实施例中，这个角度约为70°。

根据所描述的大角度，将使在基板上的流体涂敷宽度相当多地超过设备的尺寸成为可能。流体细流可以大体上以星爆(starburst)的方式源自中心并且不仅覆盖了直接在设备下方向前移动的基板区域，而且覆盖了相对于基板的移动方向在横向方向上位于设备的旁边并前行的基板区域。因此，首先可能实现一种设计紧密结构简单利于生产的设备。其次，这种设备能够可变地使用并且允许对基板的灵活涂敷。