[发明专利]芳香族锍盐化合物

说明书

技术领域

本发明涉及新型的芳香族锍盐化合物，详细而言，涉及芳香族锍盐化合物、使用了该化合物的光致产酸剂(photo-acid generator)及阳离子聚合引发剂、以及含有它们的抗蚀剂组合物及阳离子聚合性组合物。

背景技术

锍盐化合物是通过受到光等能量线照射而产生酸的物质，被用于在半导体等电子电路的形成中使用的光刻法用抗蚀剂组合物中的光致产酸剂、和立体光刻用树脂组合物(stereolithographic resin composition)、涂料、涂敷剂、粘接剂等光聚合性组合物中的阳离子聚合引发剂等。

专利文献1～3中公开了芳香族锍盐化合物、由该化合物组成的光致产酸剂及包含该光致产酸剂的光聚合性组合物。但是，这些光致产酸剂的显影性不充分，特别是在用作负型抗蚀剂的情况下，不容易进行微细的图案化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-143212号公报

专利文献2：日本特开平9-157350号公报

专利文献3：日本特开2000-186071号公报

发明内容

发明要解决的课题

因此，本发明的目的在于提供显影性高的光致产酸剂及固化性高的阳离子聚合引发剂，还在于提供使用了它们的抗蚀剂组合物及阳离子聚合性组合物。

用于解决课题的手段

本发明者们为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现，具有特定结构的芳香族锍盐化合物可解决上述问题，从而达到本发明。

即，本发明提供下述通式(I)所示的新型的芳香族锍盐化合物。

[化1]

(式(I)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及R¹⁰分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、无取代的或具有取代基的碳原子数为1～18的烷基、无取代的或具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、或者无取代的或具有取代基的碳原子数为7～20的芳基烷基，

R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶及R¹⁷分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、或者无取代的或具有取代基的碳原子数为1～18的烷基，

R¹⁸表示氢原子、无取代的或具有取代基的碳原子数为1～18的烷基、无取代的或具有取代基的碳原子数为6～20的芳基、或者无取代的或具有取代基的碳原子数为7～20的芳基烷基，

R¹～R¹⁸所示的碳原子数为1～18的烷基、R¹～R¹⁰及R¹⁸所示的碳原子数为6～20的芳基、以及R¹～R¹⁰及R¹⁸所示的碳原子数为7～20的芳基烷基所具有的取代基的数目没有限制，

R¹～R¹⁸所示的碳原子数为1～18的烷基、R¹～R¹⁰及R¹⁸所示的碳原子数为6～20的芳基、以及R¹～R¹⁰及R¹⁸所示的碳原子数为7～20的芳基烷基中的亚甲基链可以被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-中断，

X₁^-表示1价的阴离子。)

此外，本发明提供一种光致产酸剂，其特征在于，其包含上述芳香族锍盐化合物。

此外，本发明提供一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其含有上述光致产酸剂。

此外，本发明提供一种阳离子聚合引发剂，其特征在于，其包含上述芳香族锍盐化合物。

此外，本发明还提供一种阳离子聚合性组合物，其特征在于，其含有上述阳离子聚合引发剂。

发明的效果