[发明专利]铅笔芯及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080028204.6 申请日: 2010-04-22
公开(公告)号: CN102459481A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 坂西聪;北泽胜德 申请(专利权)人: 三菱铅笔株式会社
主分类号: C09D13/00 分类号: C09D13/00;B43K19/02;B43K19/18
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 铅笔 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种铅笔芯,其包含片状石墨,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,其中具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有0.1-20nm的球形度的纳米颗粒与所述石墨的ab面接触。

2.一种铅笔芯,其包含片状石墨,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,其中具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有50-800m2/g的比表面积的纳米颗粒与所述石墨的ab面接触。

3.一种铅笔芯,其包含片状石墨,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,其中具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有0.1-20nm的球形度的纳米颗粒粘着至所述石墨的ab面。

4.一种铅笔芯,其包含片状石墨,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,其中具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有50-800m2/g的比表面积的纳米颗粒粘着至所述石墨的ab面。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的铅笔芯,其中用于所述铅笔芯的纳米颗粒为碳纳米颗粒。

6.根据权利要求5所述的铅笔芯,其中所述碳纳米颗粒为金刚石。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的铅笔芯,其中所述纳米颗粒具有4-100nm的体积平均粒径(mv值)。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的铅笔芯,其中通过将通过在JIS S 6005:2007中规定的使用划线机的划线法划线中的总摩擦力的平均值(n=10)除以书写负载而获得的总摩擦系数为0.191-0.218。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的铅笔芯,其中当借助FE-SEM(加速电压:5kV)在5μm×5μm的区域内观察所述铅笔芯的研磨截面时,观察到所述纳米颗粒1-300个。

10.一种根据权利要求1、2和5-9中任一项所述的铅笔芯的制造方法,其中形成包含片状石墨的铅笔芯的芯体,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上;接着,将纳米颗粒分散在折射率为1.3-1.5和25℃下的粘度为7-200mm2/s的液体中,然后将所述芯体用所述液体含浸。

11.一种根据权利要求3和5-9中任一项所述的铅笔芯的制造方法,其中将片状石墨与纳米颗粒接触,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,所述纳米颗粒具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有0.1-20nm的球形度;然后,将所述纳米颗粒固定于所述片状石墨上以制备复合物;通过使用所述复合石墨形成芯体,并且将所述芯体用折射率为1.3-1.5和25℃下的粘度为7-200mm2/s的液体含浸。

12.一种根据权利要求4-9中任一项所述的铅笔芯的制造方法,其中将片状石墨与纳米颗粒接触,所述片状石墨具有平面度为至少2μm以下的ab面和其中所述ab面中的a轴或b轴与c轴的宽高比为5以上,所述纳米颗粒具有基于100的石墨体积平均粒径(mv值)为0.05-2的mv值和具有50-800m2/g的比表面积;然后,将所述纳米颗粒固定于所述片状石墨上以制备复合物;通过使用该复合石墨形成芯体,并且将所述芯体用折射率为1.3-1.5和25℃下的粘度为7-200mm2/s的液体含浸。

13.根据权利要求11或12所述的铅笔芯的制造方法,其中所述石墨通过静电力与所述纳米颗粒接触。

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