[发明专利]具有最佳烹饪效率的高速烹饪炉

权利要求书

1.一种炉，包括：

烹饪室，所述烹饪室由顶壁、底壁、后壁以及一对侧壁限定；

向所述烹饪室提供气体的一个或多个送风机；以及

多个集气室，所述多个集气室大致围绕所述烹饪室，使得所述气体在返回到所述一个或多个送风机之前通过所述集气室从所述一个或多个送风机流动到所述烹饪室外时接触所述顶壁、底壁、后壁和侧壁中的每一个的至少一部分。

2.如权利要求1所述的炉，其中，所述多个集气室包括至少一个集气室，气体通过所述至少一个集气室被提供至所述烹饪室。

3.如权利要求1所述的炉，其中，所述多个集气室包括至少一个集气室，气体通过所述至少一个集气室从所述烹饪室返回到所述一个或多个送风机。

4.如权利要求2所述的炉，其中，所述至少一个集气室设置在所述烹饪室上方。

5.如权利要求2所述的炉，其中，所述至少一个集气室设置在所述烹饪室下方。

6.如权利要求3所述的炉，其中，所述至少一个集气室设置为与所述烹饪室的侧壁中的一个相邻。

7.如权利要求1所述的炉，其中：

所述侧壁跨过所述烹饪室相对地彼此设置；

第一集气室设置为与所述一对侧壁中的一个相邻；并且

第二集气室设置为与所述一对侧壁中的另一个相邻。

8.如权利要求7所述的炉，其中，所述一对侧壁的侧壁中的每一个均包括回气开口，所述回气开口设置为使气体通过所述回气开口从所述烹饪室流到所述第一集气室或所述第二集气室。

9.如权利要求8所述的炉，其中，所述回气开口设置为靠近所述烹饪室的底部。

10.如权利要求3所述的炉，其中，所述至少一个集气室设置在所述烹饪室后面。

11.如权利要求2所述的炉，其中，所述至少一个集气室设置在所述烹饪室后面。

12.一种炉，包括：

烹饪室，所述烹饪室包括第一侧壁和第二侧壁，所述第二侧壁跨过所述烹饪室与所述第一侧壁相对地设置；

一个或多个磁控管；

一个或多个微波谐振器，所述一个或多个微波谐振器用于将由所述一个或多个磁控管产生的微波能量引导至所述烹饪室内；

第一集气室，所述第一集气室设置为与所述第一侧壁相邻并与所述烹饪室气体连通；以及

第二集气室，所述第二集气室设置为与所述第二侧壁相邻并与所述烹饪室气体连通。

13.如权利要求12所述的炉，其中，所述第一侧壁包括使得能够进行所述气体连通的开口。

14.如权利要求13所述的炉，其中，所述第二侧壁包括使得能够进行所述气体连通的开口。

15.如权利要求13所述的炉，其中：

所述烹饪室还包括底部；并且

所述开口设置为靠近所述烹饪室的所述底部。

16.如权利要求14所述的炉，其中：

所述烹饪室还包括底部；并且

所述开口设置为靠近所述烹饪室的所述底部。

17.如权利要求12所述的炉，还包括第三集气室，所述第三集气室设置在所述烹饪室后面并与所述第一集气室和第二集气室气体连通。

18.如权利要求12所述的炉，还包括第四集气室，所述第四集气室设置在所述烹饪室上方并与所述烹饪室气体连通。

19.如权利要求12所述的炉，还包括第五集气室，所述第五集气室设置在所述烹饪室下方并与所述烹饪室气体连通。