[发明专利]至并流蒸气-液体接触塔盘的改进流体分配

权利要求书

1.一种用于进行并流接触的设备，其包括：

a)流体分配系统(60)，其包括至少一个具有多个出口流道(64)的伸长槽(62)和多个液体分配盘(65)；和

b)并流塔盘接触段，其具有多个水平液体流的蒸气-液体接触平台区(106)，

c)多个降液管(102、104)，其在接触平台区(106)下方延伸至倾斜的降液管挡板(22)，和

d)中心挡板(108)，其在接触平台区(106)上方和多个降液管(102、104)中的至少两个之间延伸且与降液管一起限定水平流的接触平台区(106)，

其中出口流道(64)与液体分配盘(65)对准，且其中液体分配盘(65)在蒸气-液体接触平台区(106)的入口区域上延伸。

2.根据权利要求1的设备，其中所述液体分配盘(65)垂直于至少一个伸长槽(62)延伸。

3.根据权利要求1或2的设备，其中流体分配系统(60)的槽(62)的数量小于接触段的降液管的数量。

4.根据权利要求1-3中任一项的设备，其中液体分配盘(65)的数量大于接触段的降液管的数量。

5.根据权利要求1-4中任一项的设备，其中流体分配系统(60)位于设备中所有接触段上方。

6.根据权利要求1-4中任一项的设备，其中流体分配系统(60)位于设备中的上部接触段下方。

7.根据权利要求6的设备，其中所述上部接触段具有比并流塔盘接触段更少的降液管。

8.根据权利要求6的设备，其中至少一个伸长槽(62)在具有多个升气管(80)的液体收集平台(85)下方。

9.一种用于进行并流蒸气-液体接触的设备，其包括：流体分配系统(60)，其包括与通向设备的外部流体入口和至少一个具有多个出口流道(64)的伸长槽(62)连通的预分配管道(66)，

其中分配系统(60)在具有多个水平液体流的蒸气-液体接触平台区(106)的并流塔盘接触段上方，多个降液管(102、104)在接触平台区(106)下方延伸至倾斜降液管挡板(22)，中心挡板(108)在接触平台区(106)上方和多个降液管(102、104)中的至少两个之间延伸并与降液管一起限定水平流的接触平台区(106)，且

其中出口流道(64)与液体分配盘(65)对准，其提供偏离多个降液管(102、104)的纵向相邻降液管的液体流路。

10.一种流体分配系统(60)，其包括至少一个伸长槽(62)，伸长槽(62)具有多个排列好的出口流道(64)用于分配至多个液体分配盘(65)中，其中液体分配盘与至少一个伸长槽(62)垂直延伸。