[发明专利]用于气相沉积的反应器盖子组件

权利要求书

1.一种用于气相沉积的反应器盖子组件，包括：

在盖子支撑件上邻近彼此布置的第一淋喷头组件和隔离器组件，其中所述第一淋喷头组件还包括：

主体，其包括上部分和下部分；

中央通道，其延伸穿过所述主体的所述上部分和所述下部分，在所述主体的内表面之间，并且平行于延伸穿过所述主体的中心轴线；

上管板，其包括第二多个孔并且被布置在所述中央通道内；

下管板，其包括第三多个孔并且在所述上管板下方布置在所述中央通道内；以及

多个管，其从所述上管板延伸至所述下管板，其中每个管被耦合于来自所述第二多个孔的分别的孔和来自所述第三多个孔的分别的孔，并且与该来自所述第二多个孔的分别的孔和该来自所述第三多个孔的分别的孔流体连通；以及

在所述盖子支撑件上邻近彼此布置的第二淋喷头组件和排气组件，其中所述隔离器组件被布置在所述第一淋喷头组件和所述第二淋喷头组件之间，并且所述第二淋喷头组件被布置在所述隔离器组件和所述排气组件之间。

2.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，其中所述盖子支撑件包括选自由钢、不锈钢、300系列不锈钢、铁、镍、铬、钼、铝、其合金及其组合组成的组的材料。

3.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，其中所述第一淋喷头组件、所述隔离器组件、所述第二淋喷头组件和所述排气组件被连贯地布置为邻近彼此并且沿着沿所述盖子支撑件的长度延伸的工艺路径。

4.根据权利要求3所述的反应器盖子组件，其中所述隔离器组件或所述排气组件具有与所述工艺路径的宽度实质上相同或大于所述工艺路径的宽度的宽度。

5.根据权利要求3所述的反应器盖子组件，其中所述隔离器组件或所述排气组件具有与所述第一淋喷头组件或所述第二淋喷头组件的宽度实质上相同或大于所述第一淋喷头组件或所述第二淋喷头组件的宽度的宽度。

6.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，其中所述第一淋喷头组件、所述隔离器组件、所述第二淋喷头组件和所述排气组件独立地具有矩形的几何形状。

7.根据权利要求6所述的反应器盖子组件，其中所述第一淋喷头组件和所述第二淋喷头组件具有正方形的几何形状。

8.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，还包括温度调节系统，所述温度调节系统包括延伸贯穿所述盖子支撑件的至少一个流体通路，其中所述流体通路被耦合于至少一个入口和至少一个出口，并且与所述至少一个入口和所述至少一个出口流体连通。

9.根据权利要求8所述的反应器盖子组件，其中每个入口和出口被独立地耦合于热交换器并且与所述热交换器流体连通。

10.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，还包括温度调节系统，所述温度调节系统包括延伸贯穿所述盖子支撑件的至少两个独立的流体通路，其中所述流体通路中的每个被耦合于至少一个入口和至少一个出口并且与所述至少一个入口和所述至少一个出口流体连通。

11.根据权利要求16所述的反应器盖子组件，其中所述第二淋喷头被布置在所述温度调节系统的所述两个独立的流体通路之间。

12.根据权利要求11所述的反应器盖子组件，其中每个入口和出口被独立地耦合于热交换器并且与所述热交换器流体连通。

13.根据权利要求10所述的反应器盖子组件，其中所述隔离器组件被布置在所述温度调节系统的所述两个独立的流体通路之间。

14.根据权利要求13所述的反应器盖子组件，其中每个入口和出口被独立地耦合于热交换器并且与所述热交换器流体连通。

15.根据权利要求1所述的反应器盖子组件，还包括温度调节系统，所述温度调节系统包括延伸贯穿所述盖子支撑件的至少三个独立的流体通路，其中所述流体通路中的每个被耦合于至少一个入口和至少一个出口并且与所述至少一个入口和所述至少一个出口流体连通。

16.根据权利要求15所述的反应器盖子组件，其中所述第二淋喷头被布置在所述温度调节系统的两个独立的流体通路之间。