[发明专利]用于修复显示装置中的亮点缺陷的设备

说明书

技术领域

本发明系涉及一种用于修复显示装置的亮点缺陷的设备，尤其是，涉及一种用于修复显示装置的亮点缺陷的设备，在整个激光束照射区域，激光束的能量密度均匀。

背景技术

最近，液晶显示装置作为下一代尖端显示元件备受瞩目，其功率消耗低、便携性良好、技术密集型、且附加价值高。在这种液晶显示装置之中，尤其是主动矩阵类型液晶显示装置，包括能够切换施加于各像素的电压的切换元件)，由于其优秀的分辨率及视频处理能力，而最受瞩目。

参照图1所示，通常的液晶面板500的结构为，将作为上层基板的滤色器基板及作为下层基板的薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)阵列基板510接合，使其面对面，且具有介电各向异性的液晶层520形成于滤色器基板及TFT阵列基板510之间。液晶面板500的驱动方式为，通过用于选择像素的地址配线，对附加至数十万个像素的薄膜晶体管(TFT)进行开关操作，施加电压至相应的像素。此处，滤色器基板包括玻璃531、滤色器(例如RGB)532、形成于所述滤色器532之间的黑色矩阵533、保护层534、用于通用电极的ITO535、及定向膜536。偏光板537附着于所述玻璃531的上方。

另外，具有与此不同的结构的液晶面板也已被公开，如不包括保护层或黑色矩阵的结构，及滤色器阵列(COA)结构。

为了制造这种液晶面板，需执行TFT阵列基板工艺、滤色器基板工艺、液晶单元工艺等等。

所述TFT阵列基板工艺为，重复淀积(deposition)工艺、光刻(photolithography)工艺及蚀刻(etching)工艺，以在玻璃基板上形成栅极配线、数据配线、薄膜晶体管及像素电极的工艺。

所述滤色器基板工艺为，以特定顺序排列在具有黑色矩阵的玻璃基板上且呈现颜色的RGB滤色器后，形成用于通用电极的ITO膜的工艺。

所述液晶单元工艺为，将TFT阵列基板及滤色器阵列基板接合，以使具有一定的间隙于其之间，通过将液晶注入于该间隙而形成液晶层的工艺。另外，最近还公开了液晶滴入制程(One Drop Filing，ODF)工艺，将液晶均匀涂抹于TFT阵列基板上之后，再接合滤色器基板。

在检测液晶显示装置的过程中，在液晶面板的屏幕上显示测试图案，且探测是否存在不良像素，若发现不良像素，则实行对此修复的操作。液晶面板的不良可分为点缺陷、线缺陷及显示不均匀。点缺陷由TFT元件、像素电极、及滤色器配线的不良所造成。线缺陷由配线之间的断路(Open)、短路(Short)、静电对TFT的损坏、及与驱动电路的连接不良所造成。显示不均匀可能由单元厚度的不均匀、液晶定向的不均匀、TFT特性位置的分散、及配线的相对较高的时间常数所造成。

一般而言，点缺陷及线缺陷的原因在于配线的缺陷。现有技术仅仅是，当发现断路(open)的配线时，将断路的部分连接起来。当配线短路(short)时，将相应的线切断。

除了所述的缺陷之外，包括灰尘、有机物、或金属的杂质在制造液晶面板的过程中会被吸着，若这些杂质被邻近的滤色器吸着，则产生所谓的漏光现象，即当驱动面板时，相应的像素会发射具有比一般像素较高的亮度的光。为了修复这种亮点缺陷，对利用激光的方法已着手研究。

具体而言，对发现亮点缺陷的滤色器照射激光，以进行黑化。

如此黑化的像素由于其光透射率下降，且变成暗点，以使其阻止显示装置的光源单元(背光单元)所产生的光透过，反而进行吸收，从而修复亮点缺陷。

因此，经照射的激光应具有使欲黑化的相应像素的透射率较低的波长，即，应照射具有使吸收率较高的波长的激光。这类波长的选择可参考图2中所示的滤色器的各波长的透射率。

参照图3所示，传统的亮点缺陷修复装置包括，激光单元110；扫描器130，其用于在面板P的滤色器的照射区域扫描所述激光束；监测单元140和照明141，其用于实时确认滤色器(或面板)；焦点自动调整构件150，其用于调整所述激光束的焦点；以及，聚焦透镜160。另外，进一步配置用于调整光的路径的多个反射镜M1及M2。

参照图4所示，所述扫描器作为公知的构件，包括，X电流计镜132及Y电流计镜131，其用于改变激光束的方向；以及，扫描透镜133，其用于聚集方向已被反射镜改变的激光束。