[发明专利]用于校准位置测量设备的方法和校准掩模

权利要求书

1.一种校准掩模(40)，用于校准用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备，其中，所述校准掩模(40)包括衍射结构(42)，针对所述衍射结构(42)的干涉位置测量，构造所述衍射结构(42)。

2.如权利要求1所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)被构造来用于使所述衍射结构(42)相对于彼此的位置的干涉测量达到小于2nm的精度。

3.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)总共覆盖超过50％的可用掩模区。

4.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其具有至少1000个所述衍射结构(42)。

5.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)分别被构造为衍射光栅(42a、42b、42c)。

6.如权利要求5所述的校准掩模，其中，各个独立衍射光栅(42a、42b、42c)的光栅元件(46a、46b、46c、48c)相对于相邻光栅元件的距离小于1.5μm。

7.如权利要求5或6所述的校准掩模，其中，各个独立衍射光栅(42a、42b、42c)的光栅元件(46a、46b、46c、48c)被布置为相对于彼此具有小于3μm的周期距离。

8.如权利要求5至7中的任一项所述的校准掩模，其中，每个衍射光栅(42a、42b、42c)具有至少100个光栅元件(46a、46b、46c、48c)。

9.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)各自在至少一个空间方向上具有超过200μm的范围。

10.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)被构造为用于在利特罗反射中反射入射角大于1°的可见光。

11.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)各自具有棋盘式光栅(42b)。

12.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)各自包括多个不同定向的一维线光栅(44)。

13.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)包括环形光栅(42c)，其具有多个同心圆(46c)和/或相对于中心点的多个径向线(48c)。

14.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其中，所述衍射结构(42)被构造为用于衍射可见光和/或更高频率波长范围中的光。

15.如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模，其除了所述些衍射结构(42)之外还具有要被光刻地成像到晶片上的产品结构。

16.一种校准掩模组，包括多个如前述权利要求中的任一项所述的校准掩模(40)，其中，不同校准掩模(40)的衍射结构(42)在结构类型上不同。

17.如权利要求16所述的校准掩模组，其中，不同的结构类型在几何形状和/或尺寸上不同。

18.如权利要求16或17所述的校准掩模组，其中，所述不同的结构类型在产生所述衍射结构(42)的方法上不同。

19.如权利要求18所述的校准掩模组，其中第一结构类型的衍射结构(42)由电子束写入产生，第二结构类型的衍射结构(42)由全息曝光产生。

20.一种包括用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备(10)以及如权利要求1至15中的任一项所述的校准掩模(40)的布置。

21.一种校准掩模(40)的用途，其中，所述校准掩模(40)包括布置在其上的衍射结构(42)，用于校准用于光刻掩模(12)上的测量结构(14)的位置测量的设备(10)；其中，针对所述衍射结构(42)的干涉位置测量构造所述衍射结构(42)。

22.如权利要求21所述的校准掩模(40)的用途，其中，根据权利要求1至15中的任一项构造所述校准掩模(40)。