[发明专利]光刻设备和方法无效

专利信息
申请号: 201080018387.3 申请日: 2010-03-18
公开(公告)号: CN102414623A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: B·斯特里克;R·德珠 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种使用EUV光刻设备将图案化辐射束投影到衬底上的方法,所述光刻设备具有包括多个反射镜的投影系统,所述方法包括步骤:

在使用投影系统将图案化辐射束投影到衬底上的同时沿基本上垂直于衬底表面的方向移动投影系统的最终反射镜,和

旋转最终反射镜以基本上补偿所投影的图案化辐射束在衬底上的由于反射镜的移动带来的不想要的平移。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述最终反射镜的旋转与最终反射镜的移动同步。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述光刻设备是扫描设备,其在扫描移动过程中相对于投影系统移动衬底,以及所述最终反射镜的旋转围绕基本上垂直于衬底的扫描移动方向的轴线。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,曝光区域的外部部分处的辐射强度比曝光区域的其他部分处的辐射强度大。

5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述衬底的扫描移动的速度使得在时间段T期间衬底移动与由图案化辐射束限定的曝光区域的宽度相对应的距离,并且其中在时间段T期间所述最终反射镜由初始位置通过一个或多个移动循环移动至从初始位置移位的位置并返回至初始位置,在时间段T的终点,最终反射镜返回至初始位置。

6.根据权利要求3或5所述的方法,其中,衬底的扫描移动速度使得在时间段T期间所述衬底移动与由图案化辐射束限定的曝光区域的宽度相对应的一距离,并且其中在时间段T期间所述最终反射镜由初始取向通过一个或多个取向循环移动至经过转动的取向并返回至初始取向,在时间段T的终点,所述最终反射镜返回至初始取向。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其中,在目标部分曝光期间衬底的位置相对于投影系统是固定的,在时间段T内进行目标部分的曝光,并且其中在时间段T期间所述最终反射镜从初始位置通过一个或多个移动循环移动至从初始位置移位的位置并且返回至初始位置,在时间段T的终点,所述最终反射镜返回至初始位置。

8.根据权利要求2或7所述的方法,其中,在目标部分曝光期间衬底的位置相对于投影系统是固定的,在时间段T内进行目标部分的曝光,并且其中在时间段T期间所述最终反射镜从初始取向通过一个或多个取向循环移动至经过转动的取向并且返回至初始取向,在时间段T的终点,所述最终反射镜返回至初始位置。

9.根据权利要求5或6所述的方法,其中,最终反射镜的初始位置位于在最终反射镜的移动循环期间最终反射镜所经过的位置范围的一个末端。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法,其中,所述投影系统包括至少4个反射镜。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,所述投影系统包括6个反射镜。

12.一种EUV光刻设备,包括投影系统,所述投影系统具有多个反射镜和配置用以支撑衬底的衬底台,投影系统的最终反射镜布置成引导图案化辐射束至衬底上,其中所述设备还包括致动器,所述致动器配置成沿基本上垂直于衬底表面的方向移动所述投影系统的最终反射镜,并且配置成以基本上补偿所投影的图案化辐射束在衬底上的由于反射镜的移动带来的不想要的平移的方式旋转所述最终反射镜。

13.根据权利要求12所述的设备,其中,所述致动器配置成使得最终反射镜的旋转与最终反射镜的移动同步。

14.根据权利要求12或13所述的设备,其中,所述光刻设备是扫描设备,所述扫描设备布置成以扫描移动的方式相对于投影系统移动衬底,并且最终反射镜的旋转围绕基本上垂直于衬底的扫描移动方向的轴线。

15.根据权利要求12-14中任一项所述的设备,其中,所述致动器配置成使得最终反射镜的初始位置位于在最终反射镜的移动循环期间最终反射镜所经过的位置范围的一个末端。

16.根据权利要求12-15中任一项所述的设备,其中,所述投影系统包括至少4个反射镜。

17.根据权利要求16所述的设备,其中,所述投影系统包括6个反射镜。

18.根据权利要求12-17中任一项所述的设备,其中,通过控制系统控制致动器,所述控制系统包括高频部件和低频部件。

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