[发明专利]半导体元件、半导体装置及电力变换器有效
| 申请号: | 201080018113.4 | 申请日: | 2010-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN102414818A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
| 发明(设计)人: | 安达和广;楠本修;内田正雄;桥本浩一;风间俊 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/06;H01L27/088;H01L29/12;H01L29/739;H01L29/78 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 元件 装置 电力 变换器 | ||
1.一种半导体装置,具备:包括金属-绝缘体-半导体场效应晶体管的半导体元件、和对所述半导体元件的电位进行设定的电位设定部,
所述金属-绝缘体-半导体场效应晶体管具备:
第1导电型的半导体基板;
第1导电型的第1碳化硅半导体层,其位于所述半导体基板的主面上;
第2导电型的体区域,其位于所述第1碳化硅半导体层内;
第1导电型的源极区域,其位于所述体区域内;
第1导电型的第2碳化硅半导体层,其位于所述第1碳化硅半导体层上,且与所述体区域以及所述源极区域的至少一部分相接地形成;
所述第2碳化硅半导体层上的栅极绝缘膜;
所述栅极绝缘膜上的栅极电极;
源极电极,其与所述源极区域接触;以及
漏极电极,其设置于所述半导体基板的背面,
将以所述源极电极的电位为基准的所述漏极电极的电位定义为Vds,
将以所述源极电极的电位为基准的所述栅极电极的电位定义为Vgs,
将所述金属-绝缘体-半导体场效应晶体管的栅极阈值电压定义为Vth,
将从所述漏极电极流向所述源极电极的电流的流向定义为正向,
将从所述源极电极流向所述漏极电极的电流的流向定义为反向,
所述电位设定部在晶体管动作ON模式下,通过使以所述源极电极的电位为基准的所述栅极电极的电位Vgs上升至栅极阈值电压Vth以上,从而经由所述第2碳化硅半导体层使所述漏极电极与所述源极电极之间导通,
所述电位设定部在晶体管动作OFF模式下,通过将以所述源极电极的电位为基准的所述栅极电极的电位Vgs设为0伏特以上且小于栅极阈值电压Vth,从而使所述金属-绝缘体-半导体场效应晶体管,作为从所述源极电极经由所述第2碳化硅半导体层向所述漏极电极沿所述反向流动电流的二极管发挥作用。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
所述二极管的上升电压的绝对值比由所述体区域和所述第1碳化硅半导体层构成的体二极管的上升电压的绝对值小。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
所述二极管的上升电压的绝对值与所述体二极管的上升电压之差在0.7伏特以上。
4.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
所述二极管的上升电压的绝对值在室温下小于1.3伏特。
5.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
所述二极管的上升电压的绝对值在室温下小于1.0伏特。
6.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
所述二极管的上升电压的绝对值在室温下小于0.6伏特。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





