[发明专利]蒸镀处理装置和蒸镀处理方法无效

专利信息
申请号: 201080017943.5 申请日: 2010-04-21
公开(公告)号: CN102414339A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 小野裕司;江面知彦;林辉幸;田村明威;齐藤美佐子;桑田拓岳;大槻志门 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及在例如有机EL元件的制造中的发光层的成膜中使用的蒸镀处理装置和蒸镀处理方法。

背景技术

近年,开发有利用场致发光(EL:Electro Luminescence)的有机EL元件。有机EL元件几乎不放出热,与阴极射线管等相比消耗电力小,此外,由于自发发光,所以与液晶显示装置(LCD)等相比有在视角方面优良等优点,期待今后的发展。

该有机EL元件最基本的结构是在玻璃基板上使正极(阳极)层、发光层和负极(阴极)层层叠而形成的层状结构。为了向外取出发光层的光,在玻璃基板上的正极层使用由ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)等形成的透明电极。该有机EL元件一般是通过在表面预先形成了ITO层(正极层)的玻璃基板上将发光层和负极层按顺序成膜、并且使密封膜层成膜而制造的。

上述有机EL元件的结构的发光层的成膜一般在蒸镀处理装置实施。在专利文献1公布了实施有机EL元件的制造中进行成膜的蒸镀处理装置和方法。

此外,在专利文献2公布了蒸镀装置的粉体材料供给室用的真空用闸阀和具备该真空用闸阀的蒸镀处理装置。

专利文献1:US2007/0098891A1号公报

专利文献2:日本特开2007-155005号公报

发明内容

发明要解决的课题

在上述专利文献1记载的蒸镀装置具备的有机材料的材料供给机构中,有机材料是固态的颗粒和球团等、或者是溶液状,使这些有机材料蒸汽化,在基板等被处理体上通过蒸镀来实施成膜。此外,在上述专利文献2记载的蒸镀装置中,作为材料举例表示的MgO以单晶或球团状被供给。

如上述专利文献1、2记载,在通过闸阀等开闭式阀供给颗粒状的有机材料的时候,有机材料的流动性变高不会发生筛眼堵塞等,能有效地从材料供给机构向材料蒸发室等供给有机材料。

但是,在使有机材料为颗粒状等、并使用开闭式阀来实施供给的时候,由于颗粒的大小和开闭式阀的开闭时间的长短等因素,有机材料的投入量中出现偏差。此外,根据投入的有机材料的颗粒的大小,升华和溶解的速度发生变化,成膜率出现偏差。此外,与例如成为粉末状的有机材料比较,存在升华、溶解的速度变慢且蒸镀处理装置的运转效率下降这样的问题点。另一方面,在使有机材料成为粉末状、并从材料供给机构向材料蒸发室等供给的时候,由于是粉末状而流动性低,所以在设置于材料供给机构等的供给用的配管等处堵塞,或者附着在开闭阀的密封面,可能有损密闭性等。

因此,本发明的目的是提供能使保持在高流动性的状态的颗粒状的有机材料有效地以均一比率升华、溶解的蒸镀处理装置和蒸镀处理方法。

解决问题的方法

根据本发明,提供一种通过蒸镀在基板上使薄膜成膜的蒸镀处理装置,其包括供给材料气体的、自由减压的材料供给装置和在所述基板使薄膜成膜的成膜装置,所述材料供给装置具有对材料进行定量的定量部和使通过了所述定量部的材料气化的材料气体生成部。

所述定量部可以具有向上凸的圆锥形状的盖体、相对于所述盖体的上表面设置的圆锥形状的凹面体和使所述盖体和所述凹面体相对地旋转的旋转机构。所述盖体的侧面由倾斜相对不同的上侧面和下侧面形成,所述上侧面的倾斜可以比所述下侧面的倾斜平缓。此外,所述定量部可以具有被抽真空的且向所述定量部投入材料的材料投入机构和能自由变更所述盖体与所述凹面体之间的间隙的升降机构。并且,可以包括所述定量部和使所述定量部附近振动的振动机构。

此外,在所述材料供给装置中,在所述定量部的上方设置有具有搅拌颗粒状的材料的搅拌器的搅拌部。所述材料气体生成部,是经由规定的长度的通路与所述定量部连通的、使材料升华的材料升华室,所述通路和所述材料升华室具备加热器,所述通路被赋予所述定量部一侧的温度低而所述材料气体生成部一侧的温度高的温度梯度。在所述通路和所述材料升华室的外面,形成内部具有所述加热器的密闭空间,在所述密闭空间内封入挥发性的液体。此外,在所述材料升华室设置有通过使材料透过而分散的材料分散板和在上表面具有突出部的、由多孔性陶瓷形成的升华材料蒸发部。此外,在所述材料升华室可以设置:通过加热材料使之升华的材料升华板;穿过能自由旋转的所述通路内的轴;和固定于所述轴的端部并配置于所述材料升华板的上表面附近的材料分散机构。此处,所述通路和所述材料升华室的内表面可加工为粗糙面。

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