[发明专利]嘧啶衍生物及其作为除草剂的用途

权利要求书

1.一种式(I)化合物或其盐或N-氧化物：

其中：

A是卤素、任选取代的烷硫基、任选取代的烷基、任选取代的链烯基或任选取代的3-8元碳环；

X是叠氮基、卤素、任选取代的烷氧基、任选取代的烷硫基、任选取代的烷基亚磺酰基、任选取代的烷基磺酰基或NR⁵R⁶；

R⁵是氢、C_2-4链烯基、SO₂R^ss、C(O)R^uu或任选取代的C_1-4烷基；

R⁶是氢、C_2-4链烯基或任选取代的C_1-4烷基；

各R^ss独立地为C_1-4烷基或被1-3个基团R^zz任选取代的苯基；

各R^uu独立地为C_1-4烷基、被1-3个基团R^zz任选取代的苯基、C_1-4烷氧基或NR^acR^ad；

各R^zz独立地为卤素、C_1-4烷基、C_1-4烷氧基或C_1-4烷基磺酰基；

R^ac和R^ad各自独立地为氢或C_1-4烷基；

或者R⁵和R⁶一起形成基团＝C(Rⁱ)OR^j、＝C(R^k)SR^l、＝C(R^m)NRⁿR^o，其中

Rⁱ是氢、C_1-4烷基、C_3-6环烷基、苯基、C_1-4烷氧基、C_1-4烷硫基或NR^acR^ad，其中R^ac和R^ad定义同上；

R^j和R^l各自独立地为C_1-4烷基；

R^k是氢、C_1-4烷基、C_3-6环烷基、苯基、C_1-4烷硫基或NR^acR^ad，

其中R^ac和R^ad定义同上；

R^m是氢、C_1-4烷基、C_3-6环烷基、苯基或NR^acR^ad，其中R^ac和R^ad定义同上；和

Rⁿ和R^o各自独立地为氢或C_1-4烷基；

Y是任选取代的烷基、任选取代的环烷基、任选取代的链烯基或任选取代的炔基；和

Z是O_m-(CHR^w)_n-C(O)R^cb，其中

m是整数0或1；

n是整数0或1，且n≥m；

R^w是氢或C_1-4烷基；

R^cb是羟基、任选取代的烷硫基、NH₂或OR^co；

R^co是被1-3个基团R^cq任选取代的C_1-20烷基或被1-3个基团R^cq任选取代的C_1-20卤代烷基；

各R^cq独立地为C_1-6烷氧基、被1-3个基团R^cr任选取代的苯基或者被1-2个基团R^ca任选取代的杂芳基；

各R^cr和各R^cs独立地为卤素、氰基、C_1-4烷基、C_1-4卤代烷基、C_2-6烷氧基烷基、C_1-4烷氧基、C_1-4卤代烷氧基、C_1-4烷基磺酰基或C_1-4烷氧基羰基；

条件是：

i)当Y是C_1-4烷基、C_1-4卤代烷基、C_2-4烷氧基烷基、C_2-4烷硫基烷基、C_2-4链烯基、C_2-4卤代链烯基、C_2-4烷氧基链烯基、C_2-4硫烷基链烯基、C_2-4炔基、C_2-4卤代炔基、C_2-4烷基羰基或C_2-4卤代烷基羰基；

X是NR⁵R⁶；

R⁵是H、C_1-4烷基、C_3-4链烯基、C_1-4烷基磺酰基或C_1-4酰基；

R⁶是H、C_1-4烷基或C_3-4链烯基；

A是C₁-C₆烷基、环丙基、C₁-C₆卤代烷基、C₂-C₆链烯基、C₂-C₆卤代链烯基或下式基团

W₁代表H或卤素；

X₁代表H、卤素、硝基、氰基、甲酰基、C_1-6烷基、C_2-6链烯基、C_2-6炔基、C_1-6烷氧基、C_2-4烷氧基烷基、C_1-6烷基羰基、C_1-6烷硫基、C_1-6烷基亚磺酰基、C_1-6烷基磺酰基、C_2-4链烯基氧基、C_2-4炔基氧基、C_2-4链烯基硫基、C_2-4炔基硫基、C_1-6卤代烷基、C_2-6卤代链烯基、C_2-6卤代炔基、C_1-6卤代烷氧基、C_2-4卤代烷氧基烷基、C_2-6卤代烷基羰基、C_1-6卤代烷硫基、C_1-6卤代烷基亚磺酰基、C_1-6卤代烷基磺酰基、C_3-6三烷基甲硅烷基、C_2-4卤代链烯基氧基、C_2-4卤代炔基氧基、C_2-4卤代链烯基硫基、C_2-4卤代炔基硫基、-C(O)OR^7’、-C(O)NR^6’R^7’、-CR^6’NOR^7’、-NR^6’R^7’、-NR^6’OR^7’、-NR^6’SO2R^7’、-NR^6’C(O)R^7’、-NR^6’C(O)OR^7’、-NR^6’C(O)NR^6’R^7’或-NCR^6’NR^6’R^7’；

R^6’代表H、C_1-4烷基或C_1-4卤代烷基；

R^7’代表C_1-4烷基或C_1-4卤代烷基；

Y₁代表H、卤素、C_1-6烷基、C_1-6卤代烷基、C_1-6烷氧基、C_1-6卤代烷氧基、C_2-6链烯基或C_2-6卤代链烯基，或者X₁和Y₁一起代表-O(CH₂)_nnCH₂-或-O(CH₂)_nnO-，其中nn＝1或2；和

Z₁代表H或卤素，则

Z不是CO₂H、CO₂Me、CO₂Et、CO₂ⁿBu或CO₂^-NHEt₃⁺。