[发明专利]外延反应器的反应室和使用所述室的反应器

权利要求书

1.一种外延反应器的反应室，基本上由石英构件组成，其中所述石英构件包括具有由壁(1A、1B、1C、1D)界定的内腔(2)的石英构件部分(1)，其中所述腔(2)包括所述外延反应器的反应和沉积区(3)，其中所述区(3)适合于容纳在所述区(3)内待加热的基座(4)，其特征在于，所述反应室包括石英部件(5)，所述石英部件(5)被按照使得形成对面壁并成为所述区(3)的壁的方式布置为邻近所述壁(1A、1B、1C、1D)。

2.根据权利要求1所述的反应室，其中所述石英部件(5)被按照使得形成所述壁中的两个或三个或四个，优选地所述壁中的三个(1B、1C、1D)的对面壁的方式进行布置。

3.根据权利要求1或2所述的反应室，其中所述石英部件(5)安置在所述壁中的一个或两个上，优选地仅安置在所述壁中的一个上(1A)。

4.根据权利要求1或2或3所述的反应室，其中所述石英部件(5)基本上由直的或成形的石英板，优选异形的石英板，更优选U形的石英板组成。

5.根据前述权利要求中任一项所述的反应室，其中在所述石英部件(5)和所述壁(1A、1B、1C、1D)之间界定具有均匀的或可变的宽度的至少一个间隙(6)。

6.根据权利要求5所述的反应室，其中两个或三个或四个间隙，优选地三个间隙(6B、6C、6D)被界定在所述石英部件(5)和所述壁(1A、1B、1C、1D)之间，所述间隙的宽度优选地是均匀的且彼此相等的。

7.根据前述权利要求中任一项所述的反应室，其中所述石英部件(5)在内侧面或外侧面上，优选地在更邻近所述壁(1B、1C、1D)的侧面上被涂覆反射层。

8.根据前述权利要求中任一项所述的反应室，其中至少一个间隙(6)被界定在所述石英部件(5)和所述壁(1A、1B、1C、1D)之间，其特征在于，所述室与适合于在所述间隙(6)内运送至少一种流体流，优选地气态流体流的装置相结合。

9.根据权利要求8所述的反应室，其中所述至少一种流体流的速度和/或流量和/或方向和/或组成在生长工艺之前和/或在生长工艺期间和/或在生长工艺之后发生变化。

10.一种外延反应器，其特征在于，包括至少一个根据前述权利要求1至9中任一项所述的反应室。