[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效
| 申请号: | 201080016336.7 | 申请日: | 2010-01-20 |
| 公开(公告)号: | CN102388338A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
| 发明(设计)人: | 原义仁;中田幸伸;渡边启三 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示装置及其制造方法。更详细地,涉及使用梳齿状电极对液晶施加电压的垂直取向型的液晶显示装置及其制造方法。
背景技术
液晶显示装置有效地利用薄型、轻量、且低功耗的特点,在各种各样的领域中被使用。液晶显示装置具有各种显示模式,而作为能得到高对比度的液晶显示装置,已知有垂直取向(Vertical Alignment:VA)模式。
另外,在VA模式的液晶显示装置中,作为能容易限制液晶的取向方向的装置,已知如下多畴垂直取向型(Multi-domain Vertical Alignment)的液晶显示装置(下面称为MVA-LCD。)(例如,参照专利文献1。):其使具有负的介电常数各向异性的液晶垂直取向,并设有电极的除去部(狭缝)等作为限制取向用的结构物。
在MVA-LCD中,作为设有电极的除去部(狭缝)等的构成,已知被称为线与间隙(line and space)的梳齿状电极(例如,参照专利文献2。)。在梳齿状电极中,相邻的电极间的间隔为恒定很重要。由此,能将液晶的取向限制成恒定的方向。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开2003-149647号公报
专利文献2:特开2006-330375号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是,当制造梳齿状电极时,难以将相邻的电极间的间隔设成恒定。其理由如下。梳齿状电极是通过例如组合曝光处理和蚀刻处理而形成的。具体地,首先,形成导电膜(电极膜),在该导电膜上设置抗蚀剂膜,进行使用光掩模的曝光/显影处理,形成具有期望图案的抗蚀剂图案。接着,将该抗蚀剂图案作为掩模对导电膜实施蚀刻处理,由此得到期望形状的电极图案。
在此,在曝光处理中,因为梳齿状电极的电极图案的侧部是直线,所以能良好地进行曝光处理,但因为顶端部是具有角部的结构,所以在曝光处理时产生衍射不良,所得到的电极的顶端部的形状成为带有前头缩窄的圆角的形状。尤其是当图案宽度变窄时该倾向较显著。另外,即使是不产生衍射不良的情况下,在接下来的蚀刻处理中,难以在电极的顶端形成具有锐角的角部,电极的顶端部仍然成为带有前头缩窄的圆角的形状。
如上所述,当电极的顶端部成为带有前头缩窄的圆角的形状时,电极间的间隔在顶端部比中央部宽,在该部分容易产生液晶的取向不良。由此,所得到的液晶显示装置在电极的支部的顶端周边产生非透光区域,透光率降低。另外,也有时由于液晶的取向不良使视野角变窄或者响应速度迟缓,期望更进一步的显示特性的提高。
本发明是鉴于上述现状完成的,目的在于提供:在使用梳齿状电极对液晶施加电压的垂直取向型的液晶显示装置中减少在电极的顶端产生的液晶的取向不良、且显示特性优良的液晶显示装置及其制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人对使用梳齿状电极对液晶施加电压的垂直取向型的液晶显示装置进行各种研究,结果首先发现:在电极的顶端产生的液晶的取向不良起因于电极的顶端成为前头缩窄的变圆的形状,并发现:电极的顶端成为这样的形状起因于形成电极时的曝光处理和蚀刻处理。并且发现:通过将在曝光处理中使用的掩模图案的形状设成对电极的顶端形状进行校正的构成,能减轻抗蚀剂图案的顶端部的前头缩窄的圆角,因此在使用该抗蚀剂图案的蚀刻处理中也能减轻电极的顶端附近的前头缩窄的圆角的产生,由此减少液晶的取向不良,得到显示特性优良的液晶显示装置,从而想到能很好地解决上述问题,提出了本发明。
即,本发明是一种液晶显示装置的制造方法,上述液晶显示装置设有用于对被夹持在一对基板间的液晶层施加电压的电极,上述制造方法包含:抗蚀剂图案形成工序,隔着光掩模对形成于导电膜上的抗蚀剂膜进行曝光处理;以及电极图案形成工序,隔着上述抗蚀剂图案对上述导电膜进行蚀刻处理,上述光掩模具备遮光或者透光图案,上述遮光或者透光图案具备主干部和从上述主干部分支的多个支部,上述支部在顶端设有大宽度部。
本发明的液晶显示装置的制造方法是在垂直取向型的液晶显示装置中形成梳齿状的电极的方法。梳齿状的电极通过进行如下工序而得到:抗蚀剂图案形成工序,在玻璃、树脂等支撑基板上形成导电膜和抗蚀剂膜,对抗蚀剂膜进行曝光/显影处理,形成抗蚀剂图案;电极图案形成工序,将所得到的抗蚀剂图案作为掩模进行蚀刻处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080016336.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:手机服务信息获取方法、系统及手机
- 下一篇:双向式缓冲器





