[发明专利]成形物、成形物的制备方法、电子装置元件和电子装置有效

专利信息
申请号: 201080015944.6 申请日: 2010-03-24
公开(公告)号: CN102387921A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 星慎一;近藤健;上村和惠;铃木悠太 申请(专利权)人: 琳得科株式会社
主分类号: B32B27/00 分类号: B32B27/00;C08J7/00;C23C14/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李进;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成形 制备 方法 电子 装置 元件
【说明书】:

技术领域

本发明涉及呈现优良的阻气能力、透明度、弯曲性、抗静电性能和表面平整性的成形物、该成形物的制备方法、包括所述成形物的电子装置元件以及包括所述电子装置元件的电子装置。

背景技术

一种廉价并呈现优良可加工性的聚合物形成物(例如塑料膜)已提供有所期望的功能并用于各种领域。

近年来,已经提出使用透明的塑料膜作为衬底替代玻璃板用于显示器(例如液晶显示器和电致发光(EL)显示器)以实现厚度减小、重量减轻和柔性增大等。

例如,专利文件1公开了其中在透明塑料膜上形成由无机化合物形成的阻气层的阻气膜。然而,当采用在专利文件1中公开的阻气膜时,可在无机化合物薄膜中形成针孔,使得在针孔周围区域阻气能力显著减小。此外,当膜被卷绕或折叠时,在阻气层可产生破裂,使得阻气能力减小。在专利文件1中公开的阻气膜也有在阻气层上形成的附加层由于表面平整性不够而容易形成针孔的问题。因此,该阻气膜不能可靠地用于电子装置元件。

专利文件2公开了其中在塑料基底上形成无定形钻石样碳膜的阻气膜。然而,在专利文件2中公开的阻气膜由于透明度低而可能不适合于显示器等。

专利文件3公开了成形物,其包括致电离辐射硬化性树脂组合物的硬化层和钻石样碳膜。专利文件3公开了通过等离子体离子注入方法在硬化层上形成钻石样碳膜。

通过在专利文件3中公开的方法得到的成形物呈现优良的水蒸汽抗性,但是呈现不足的阻气能力。

相关技术文件

专利文件

专利文件1:JP-A-2006-297737

专利文件2:JP-A-6-344495

专利文件3:JP-A-2007-283726

发明概述

通过本发明解决的问题

本发明鉴于以上情况而被构想。本发明的一个目的是提供呈现优良的阻气能力、透明度、弯曲性、抗静电性能和表面平整性的成形物、该成形物的制备方法、包括所述成形物的电子装置元件以及包括所述电子装置元件的电子装置。

解决所述问题的方法

本发明的发明人进行了广泛研究以实现以上目的。结果,发明人发现,通过将烃化合物的离子注入到成形体的含聚有机硅氧烷化合物的层的表面,所述成形体在其表面包括含聚有机硅氧烷化合物的层,可便利和有效地制备目标成形物。该发现导致了本发明的完成。

本发明的第一个方面提供以下成形物(参见(1)-(3))。

(1)一种成形物,所述成形物包括通过将烃化合物的离子注入到含聚有机硅氧烷化合物的层得到的层。

(2)(1)的成形物,其中通过等离子体离子注入方法,通过将烃化合物的离子注入到含聚有机硅氧烷化合物的层得到所述层。

(3)(1)或(2)的成形物,所述成形物在40℃的温度和90%的相对湿度下具有1.5g/m2/天或更小的水蒸气传输速率。

本发明的第二个方面提供以下成形物的制备方法(参见(4)和(5))。

(4)(1)的成形物的制备方法,所述方法包括将烃化合物的离子注入到成形体的含聚有机硅氧烷化合物的层的表面,所述成形体在其表面包括含聚有机硅氧烷化合物的层。

(5)(4)的方法,所述方法包括在给定方向上运送长成形体时将烃化合物的离子注入到含聚有机硅氧烷化合物的层,所述长成形体在其表面包括含聚有机硅氧烷化合物的层。

本发明的第三个方面提供以下电子装置元件(参见(6))。

(6)一种电子装置元件,其包括(1)-(3)中任何一项的成形物。

本发明的第四个方面提供以下电子装置(参见(7))。

(7)一种电子装置,其包括(6)的电子装置元件。

本发明的效果

以上成形物呈现优良的阻气能力、透明度、弯曲性、抗静电性能和表面平整性。因此,该成形物可被合适地用作柔性显示器、太阳能电池等的电子装置元件。

以上成形物可通过以上方法简单且有效地制备。

由于以上电子装置元件呈现优良的阻气能力、优良的透明度等,所述电子装置元件可合适地用于电子装置例如显示器和太阳能电池。

附图简述

图1为显示等离子体离子注入设备示意性结构的视图。

图2为显示等离子体离子注入设备示意性结构的视图。

示例性实施方案的描述

下面详细描述本发明实施方案的成形物、成形物的制备方法、电子装置元件以及电子装置。

1)成形物

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