[发明专利]在图像中生成阴影的方法有效

专利信息
申请号: 201080015184.9 申请日: 2010-03-26
公开(公告)号: CN102365657A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: P.高特龙;J-E.马维;G.布莱恩德 申请(专利权)人: 汤姆森特许公司
主分类号: G06T15/60 分类号: G06T15/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吕晓章
地址: 法国伊西*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 图像 生成 阴影 方法
【权利要求书】:

1.一种在图像处理单元中实施的用于在图像(10)中生成阴影的方法, 包括步骤:

计算(E2)深度图(6),该深度图包括像素阵列,其中,该深度图(6) 中的像素与对应于深度值(dsm)的单个值相关联,该深度值指示从光源(2) 到通过该像素可看到的最接近遮挡对象(4)的部分的深度,

将通过所述图像(10)的像素(Pix)可看到的点(P)投影(E6)到光 空间中,所述投影的结果是所述深度图(6)的像素(11),

计算(E7)所述可看到的点(P)和光源(2)之间的距离(dp),

提取(E8)深度图(6)的所述像素(11)相关联的深度值(dsm),

其特征在于,该方法还包括以下步骤:

对于所述图像(10)中的所述像素(Pix),作为预定基本偏置(bbase)以 及在所述可看到的点(P)所处于的表面(3)的法向(N)与所述可看到的 点(P)处的入射光方向(L)之间的关系的函数,来计算(E9)自适应偏置 (b),

对于所述图像(10)中的所述像素(Pix),将所述可看到的点(P)和光 源(2)之间的距离(dp)、以及对应深度图值(dsm)与所述自适应偏置(b) 之和进行比较(E10),

根据所述比较,将通过所述像素(Pix)可看到的所述点(P)标记(E11,E12) 为照亮或加阴影。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:通过将所述预定基本偏置 (bbase)除以标量积来计算所述自适应偏置(b),该标量积为表面法向(N) 与入射光方向(L)的标量积。

3.如前述权利要求任一项所述的方法,其特征在于:所述自适应偏置(b) 被限制到最大值。

4.一种图形处理单元,其包括用于运行用以执行根据前述权利要求中任 一项所述的方法的代码指令的部件。

5.一种存储了计算机可运行指令的计算机可读介质,当所述计算机可运 行指令在计算机上运行时,执行根据权利要求1到4任一项所述的方法的所 有步骤。

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