[发明专利]发光二极管元件及其制造方法有效
| 申请号: | 201080013974.3 | 申请日: | 2010-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN102369605A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
| 发明(设计)人: | 上山智;岩谷素显;天野浩;赤崎勇;西村拓哉;寺前文晴;近藤俊行 | 申请(专利权)人: | 名城大学 |
| 主分类号: | H01L33/08 | 分类号: | H01L33/08;H01L33/16 |
| 代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 董巍;徐丁峰 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光二极管 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一种发光二级管元件,具有:
半导体发光部;以及
多孔SiC部,由添加了N和B的多孔状单晶6H型SiC构成,如果被所述半导体发光部发出的光激励则发出可视光。
2.根据权利要求1所述的发光二级管元件,具有:
覆盖所述多孔SiC部表面的保护膜。
3.根据权利要求2所述的发光二级管元件,具有:
块SiC部,由添加了N和B的块状单晶6H型SiC构成,如果被所述半导体发光层发出的光激励则发出比所述多孔SiC部波长要长的可视光。
4.根据权利要求3所述的发光二级管元件,
把所述块SiC部的一部分多孔化来形成所述多孔SiC部。
5.根据权利要求4所述的发光二级管元件,
所述半导体发光部的一部分在被多孔化的所述块SiC部上形成。
6.一种发光二级管元件的制造方法,是权利要求1至5中任一权利要求所述的发光二级管元件的制造方法,包括:
电极形成工序,在添加了N和B的块状单晶6H型SiC形成电极;以及
阳极氧化工序,对形成了所述电极的单晶6H型SiC进行阳极氧化,形成所述多孔SiC部。
7.根据权利要求6所述的发光二级管元件的制造方法,包括:
热处理工序,进行所述多孔SiC部的热处理;以及
保护膜形成工序,在进行了热处理的所述多孔SiC部形成保护膜。
8.根据权利要求7所述的发光二级管元件的制造方法,
在所述阳极氧化工序,作为与所述单晶6H型SiC反应的溶液,采用加了氧化助剂的氢氟酸水溶液。
9.根据权利要求8所述的发光二级管元件的制造方法,
所述氧化助剂是过硫酸钾。
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