[发明专利]发光二极管元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201080013974.3 申请日: 2010-03-26
公开(公告)号: CN102369605A 公开(公告)日: 2012-03-07
发明(设计)人: 上山智;岩谷素显;天野浩;赤崎勇;西村拓哉;寺前文晴;近藤俊行 申请(专利权)人: 名城大学
主分类号: H01L33/08 分类号: H01L33/08;H01L33/16
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;徐丁峰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 元件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二级管元件,具有:

半导体发光部;以及

多孔SiC部,由添加了N和B的多孔状单晶6H型SiC构成,如果被所述半导体发光部发出的光激励则发出可视光。

2.根据权利要求1所述的发光二级管元件,具有:

覆盖所述多孔SiC部表面的保护膜。

3.根据权利要求2所述的发光二级管元件,具有:

块SiC部,由添加了N和B的块状单晶6H型SiC构成,如果被所述半导体发光层发出的光激励则发出比所述多孔SiC部波长要长的可视光。

4.根据权利要求3所述的发光二级管元件,

把所述块SiC部的一部分多孔化来形成所述多孔SiC部。

5.根据权利要求4所述的发光二级管元件,

所述半导体发光部的一部分在被多孔化的所述块SiC部上形成。

6.一种发光二级管元件的制造方法,是权利要求1至5中任一权利要求所述的发光二级管元件的制造方法,包括:

电极形成工序,在添加了N和B的块状单晶6H型SiC形成电极;以及

阳极氧化工序,对形成了所述电极的单晶6H型SiC进行阳极氧化,形成所述多孔SiC部。

7.根据权利要求6所述的发光二级管元件的制造方法,包括:

热处理工序,进行所述多孔SiC部的热处理;以及

保护膜形成工序,在进行了热处理的所述多孔SiC部形成保护膜。

8.根据权利要求7所述的发光二级管元件的制造方法,

在所述阳极氧化工序,作为与所述单晶6H型SiC反应的溶液,采用加了氧化助剂的氢氟酸水溶液。

9.根据权利要求8所述的发光二级管元件的制造方法,

所述氧化助剂是过硫酸钾。

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