[发明专利]对无机薄膜涂层具有改善粘附力的耐划痕涂层

权利要求书

1.一种制备具有耐划痕涂层的眼镜镜片的方法，其包括以下步骤：

提供包含聚倍半硅氧烷的可聚合的耐划痕涂层组合物；

将在镜片表面上的耐划痕涂层组合物聚合，

以及将聚合后的耐划痕涂层组合物暴露于氧化条件下。

2.如权利要求1所述的方法，其中聚倍半硅氧烷是多面体低聚倍半硅氧烷。

3.如权利要求2所述的方法，其中多面体低聚倍半硅氧烷具有选自如下的结构：

4.如权利要求1所述的方法，其中聚倍半硅氧烷含有能形成聚倍半硅氧烷聚合物的活性基团。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述的活性基团是烯键型不饱和基团。

6.如权利要求4所述的方法，其中所述的活性基团是甲基丙烯酸酯。

7.如权利要求1所述的方法，其中耐划痕涂层组合物还包括单体，且该多面体低聚倍半硅氧烷具有能够形成聚倍半硅烷聚合物和/或该单体与聚倍半硅氧烷的共聚物的活性基团。

8.如权利要求7所述的方法，其中该活性基团是烯键型不饱基团，并且该单体选自(甲基)丙烯酸单体，(甲基)丙烯酸低聚物及其组合。

9.如权利要求1所述的方法，其中耐划痕涂层组合物通过模内方法在镜片的表面上聚合。

10.如权利要求1所述的方法，其中氧化条件选自臭氧、氧气等离子体、短波长紫外线或电子束辐射。

11.如权利要求1所述的方法，其中氧化条件包括暴露在波长约185nm和辐射度约为10毫瓦/厘米²的光下。

12.如权利要求11所述的方法，其中暴露时间为约1分钟至约8分钟。

13.如权利要求11所述的方法，其中暴露时间为约2分钟至约4分钟。

14.如权利要求1所述的方法，其中氧化条件包括暴露在氧气中浓度约为55mg/l的臭氧中。

15.如权利要求14所述的方法，其中暴露时间为约2小时。

16.一种用于眼镜镜片的耐划痕涂层，其包括含有聚倍半硅氧烷的聚合物，并且该涂层通过暴露在氧化条件下进行化学改性。

17.如权利要求16的耐划痕涂层，其中聚倍半硅氧烷为多面体低聚倍半硅氧烷。

18.如权利要求17的耐划痕涂层，其中多面体低聚倍半硅氧烷具有选自以下的结构：

19.如权利要求16的耐划痕涂层，其进一步包含单体，并且其中聚倍半硅氧烷具有能够形成聚倍半硅氧烷聚合物和/或聚倍半硅氧烷与单体的共聚物的活性基团。

20.如权利要求19的耐划痕涂层，其中活性基团为烯键型不饱和基团。

21.如权利要求19的耐划痕涂层，其中该单体选自(甲基)丙烯酸单体、(甲基)丙烯酸低聚物以及它们的组合。

22.如权利要求19的耐划痕涂层，其中活性基团为甲基丙烯酸酯。

23.如权利要求16的耐划痕涂层，其中氧化条件选自臭氧、氧等离子体、短波长紫外线或电子束辐射。

24.一种眼镜镜片，其包括：

光学镜片；

光学镜片表面的耐划痕涂层，该涂层包括含有聚倍半硅氧烷的聚合物，以及该耐划痕涂层的表面通过暴露于氧化条件下进行化学改性；

和耐划痕涂层表面上的无机薄膜涂层。

25.如权利要求24的眼镜镜片，其中无机薄膜涂层包括与耐划痕涂层相邻的硅氧化物层。

26.如权利要求24的眼镜镜片，其中氧化条件选自臭氧、氧等离子体、短波长紫外线或电子束辐射。

27.如权利要求24的眼镜镜片，其进一步包含单体，并且聚倍半硅氧烷具有能够形成聚倍半硅氧烷聚合物和/或聚倍半硅氧烷与该单体的共聚物的活性基团。

28.如权利要求27的眼镜镜片，其中活性基团为烯键型不饱和基团。