[发明专利]非电解镀镍的预处理方法有效

专利信息
申请号: 201080013774.8 申请日: 2010-03-12
公开(公告)号: CN102405306A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: E·泽特尔迈耶 申请(专利权)人: 安美特德国有限公司
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吕彩霞;艾尼瓦尔
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 电解 预处理 方法
【权利要求书】:

1.一种非电解镀镍方法,包括以下步骤:

i.用含贵金属离子的组合物与含铜表面的基底接触,然后

ii.用含有机氨基羧酸的组合物与该含铜表面接触;和

iii.在所述处理的含铜表面上非电解镀镍。

2.权利要求1所述的方法,其中所述贵金属离子为钯。

3.上述任一权利要求所述的方法,其中步骤ii.中的预处理组合物进一步包含选自硫酸,盐酸,甲苯磺酸,甲磺酸,甲酸和乙酸的酸。

4.权利要求3所述的方法,其中所述另一种酸的浓度范围为25g/l至150g/l。

5.上述任一权利要求所述的方法,其中所述预处理组合物含至少一种由式1和式2所表示的氨基羧酸:

其中R11,R12,R21和R22独立选自H、线性的或支化的C1-C4烷基;R31,R32,R33,R34和R35独立选自H、苯基、苯甲基、C1-C4烷基,该C1-C4烷基为线性的或支化的,取代的或未取代的,其中取代基选自由-OH,-SH,-NH2,-COOH组成的组;R41和R42独立选自H、线性的或支化的C1-C4烷基、或者合适的反离子。

6.权利要求5所述的方法,其中所述合适的反离子选自Na+、K+、NH4+

7.上述任一权利要求所述的方法,其中R11,R12,R21和R22独立选自H、甲基和乙基。

8.上述任一权利要求所述的方法,其中R31,R32,R33,R34和R35独立选自由H,甲基,乙基,-CH2OH,-CH2NH2,-CH2COOH,-CH2CH2OH,-CH2CH2NH2,-CH2CH2COOH,-CH2SH,-CH2CH2SH和-CH2CONH2组成的组。

9.上述任一权利要求所述的方法,其中所述有机氨基羧酸选自由丙氨酸,天冬酰胺,天冬氨酸,半胱氨酸,谷氨酸,甘氨酸,异亮氨酸,亮氨酸,赖氨酸,丝氨酸,苯丙氨酸,蛋氨酸,苏氨酸,缬氨酸,N,N-二甲基甘氨酸组成的组。

10.权利要求1所述的方法,其中所述有机氨基羧酸选自由β-丙氨酸,β-亮氨酸,β-异亮氨酸,β-谷氨酰胺,β-谷氨酸,β-蛋氨酸,β-天冬氨酸组成的组。

11.上述任一权利要求所述的方法,其中至少一种氨基羧酸的浓度为0.1g/l至100g/l。

12.上述任一权利要求所述的方法,其中所述铜表面位于印刷电路板基底上。

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