[发明专利]用于利用X射线管进行编码源成像的结构化的电子发射器无效
| 申请号: | 201080013764.4 | 申请日: | 2010-03-22 |
| 公开(公告)号: | CN102365703A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
| 发明(设计)人: | M·K·迪尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J35/06 | 分类号: | H01J35/06;A61B6/00;G01V5/00;H01J1/304;H01J3/02 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 利用 射线 进行 编码 成像 结构 电子 发射器 | ||
1.一种用于X射线管(100)的电子发射器(1),所述发射器包括:
阴极(3);和
阳极(5);
其中,所述阴极(3)包括彼此间隔开的多个局部区域(11)的电子发 射图案(9),每个区域适于在将电场施加于所述阴极(3)和所述阳极(5) 之间时经由场发射局部地发射电子。
2.如权利要求1所述的电子发射器,其中,局部区域(11)的宽度(w) 小于距最接近的相邻的局部区域(11)的距离。
3.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述局部区 域(11)具有在显微镜下粗糙的表面。
4.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述局部区 域(11)包括用碳纳米管制成的表面层。
5.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述电子发 射图案(9)的所述局部区域(11)二维地布置在平面中。
6.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述电子发 射图案(9)包括均匀冗余阵列。
7.一种X射线管(100),包括:
如权利要求1至6中的任一项所述的电子发射器(1);和
靶区(19),其适于在加速电子的碰撞时进行X射线发射;
其中,调整所述X射线管(100),使得从所述阴极(3)的所述电子发 射图案(9)的局部区域(11)发射的电子以与所述电子发射图案(9)对 应的图案撞击到所述靶区(19)上。
8.如权利要求7所述的X射线管(100),其中,所述靶区(19)适于 作为透射靶(19’),从而在来自所述靶区的一侧的电子碰撞时,在所述靶区 的相反侧发射X射线。
9.如权利要求7所述的X射线管(100),其中,所述靶区(19)适于 作为倾斜靶(19”),从而在来自所述靶区的一侧的电子碰撞时,在所述靶 区的相同侧沿与所述碰撞的电子的方向具有角度的方向发射X射线。
10.如权利要求7至9中的任一项所述的X射线管(100),还包括:
电压源(13),其适于在所述电子发射器(1)的所述阴极(3)和所述 阳极(5)之间施加电压,从而建立至少1kV/mm的电场。
11.一种X射线图像采集设备(200),包括:
如权利要求7至10中的任一项所述的X射线管(100);
X射线探测器(106);以及
图像处理器(108);
其中,所述X射线探测器(106)适于探测来自所述X射线管(100) 的X射线的强度分布(21);
其中,所述图像处理器(106)适于基于所探测的强度分布(21)和所 述电子发射图案(9)这两者的信息导出图像信息。
12.如权利要求11所述的X射线图像采集设备(200),其中,所述图 像处理器(106)适于编码源成像。
13.一种采集对象(104)的图像(110)的方法,所述方法包括:
从彼此间隔开的多个局部区域(11)的电子发射图案(9)发射电子, 每个区域适于在将电场施加于阴极(3)和阳极(5)之间时经由场发射局 部地发射电子;
在从所述电子发射图案(9)发射的电子碰撞时生成X射线(102);
将所述X射线透射通过所述对象(104);
利用适于探测X射线的强度分布(21)的X射线探测器(106)来探 测所透射的X射线;以及
基于所探测的强度分布(21)和所述电子发射图案(9)这两者的信息 导出所述图像。
14.一种计算机程序单元,其适于当在处理器上执行时,控制如权利 要求13所述的方法。
15.一种计算机可读介质,在其上存储如权利要求14所述的计算机程 序单元。
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