[发明专利]用于利用X射线管进行编码源成像的结构化的电子发射器无效

专利信息
申请号: 201080013764.4 申请日: 2010-03-22
公开(公告)号: CN102365703A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: M·K·迪尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01J35/06 分类号: H01J35/06;A61B6/00;G01V5/00;H01J1/304;H01J3/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 利用 射线 进行 编码 成像 结构 电子 发射器
【权利要求书】:

1.一种用于X射线管(100)的电子发射器(1),所述发射器包括:

阴极(3);和

阳极(5);

其中,所述阴极(3)包括彼此间隔开的多个局部区域(11)的电子发 射图案(9),每个区域适于在将电场施加于所述阴极(3)和所述阳极(5) 之间时经由场发射局部地发射电子。

2.如权利要求1所述的电子发射器,其中,局部区域(11)的宽度(w) 小于距最接近的相邻的局部区域(11)的距离。

3.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述局部区 域(11)具有在显微镜下粗糙的表面。

4.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述局部区 域(11)包括用碳纳米管制成的表面层。

5.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述电子发 射图案(9)的所述局部区域(11)二维地布置在平面中。

6.如前述权利要求中的任一项所述的电子发射器,其中,所述电子发 射图案(9)包括均匀冗余阵列。

7.一种X射线管(100),包括:

如权利要求1至6中的任一项所述的电子发射器(1);和

靶区(19),其适于在加速电子的碰撞时进行X射线发射;

其中,调整所述X射线管(100),使得从所述阴极(3)的所述电子发 射图案(9)的局部区域(11)发射的电子以与所述电子发射图案(9)对 应的图案撞击到所述靶区(19)上。

8.如权利要求7所述的X射线管(100),其中,所述靶区(19)适于 作为透射靶(19’),从而在来自所述靶区的一侧的电子碰撞时,在所述靶区 的相反侧发射X射线。

9.如权利要求7所述的X射线管(100),其中,所述靶区(19)适于 作为倾斜靶(19”),从而在来自所述靶区的一侧的电子碰撞时,在所述靶 区的相同侧沿与所述碰撞的电子的方向具有角度的方向发射X射线。

10.如权利要求7至9中的任一项所述的X射线管(100),还包括:

电压源(13),其适于在所述电子发射器(1)的所述阴极(3)和所述 阳极(5)之间施加电压,从而建立至少1kV/mm的电场。

11.一种X射线图像采集设备(200),包括:

如权利要求7至10中的任一项所述的X射线管(100);

X射线探测器(106);以及

图像处理器(108);

其中,所述X射线探测器(106)适于探测来自所述X射线管(100) 的X射线的强度分布(21);

其中,所述图像处理器(106)适于基于所探测的强度分布(21)和所 述电子发射图案(9)这两者的信息导出图像信息。

12.如权利要求11所述的X射线图像采集设备(200),其中,所述图 像处理器(106)适于编码源成像。

13.一种采集对象(104)的图像(110)的方法,所述方法包括:

从彼此间隔开的多个局部区域(11)的电子发射图案(9)发射电子, 每个区域适于在将电场施加于阴极(3)和阳极(5)之间时经由场发射局 部地发射电子;

在从所述电子发射图案(9)发射的电子碰撞时生成X射线(102);

将所述X射线透射通过所述对象(104);

利用适于探测X射线的强度分布(21)的X射线探测器(106)来探 测所透射的X射线;以及

基于所探测的强度分布(21)和所述电子发射图案(9)这两者的信息 导出所述图像。

14.一种计算机程序单元,其适于当在处理器上执行时,控制如权利 要求13所述的方法。

15.一种计算机可读介质,在其上存储如权利要求14所述的计算机程 序单元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080013764.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top