[发明专利]可用于磁共振成像系统中的导管有效

专利信息
申请号: 201080011921.8 申请日: 2010-01-11
公开(公告)号: CN102348477A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: S·魏斯;O·利普斯;S·克吕格尔;B·戴维 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61M25/00 分类号: A61M25/00;G01R33/28
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 磁共振 成像 系统 中的 导管
【权利要求书】:

1.一种可用于磁共振成像系统(1)中,用于向对象(6)施加能量的导管(2;102;202;302),所述导管(2;102;202;302)包括:

-用于向对象(6)施加能量的能量施加元件(13;113;213;313),

-用于提供磁共振流体(14;114;214;314)的腔(12;112;212;312),能够从所述磁共振流体接收磁共振信号,其中,所述腔(12;112;212;312)适于提供用于冷却所述能量施加元件(13;113;213;313)的冷却流体作为所述磁共振流体(14;114;214;314),

-用于跟踪所述导管(2;102;202;302)的跟踪线圈(15,31;115;215;315,335),所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)适于从所述磁共振流体(14;114;214;314)接收所述磁共振信号。

2.根据权利要求1所述的导管,其中,所述腔(12;112;212;312)位于所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)的最灵敏区域之内。

3.根据权利要求1所述的导管,其中,所述腔(12;112;212;312)位于所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)之内。

4.根据权利要求1所述的导管,其中,在所述跟踪线圈(115)围绕所述腔(112)的位置处加宽所述腔(112)。

5.根据权利要求1所述的导管,其中,所述腔(12;112;212;312)是用于允许所述磁共振流体在所述导管(2;102;202;302)之内流动的流体通道。

6.根据权利要求1所述的导管,其中,所述腔(12;112;212;312)的至少一部分被布置在所述能量施加元件(13;113;213;313)之内,用于引导所述磁共振流体通过所述能量施加元件(13;113;213;313),以冷却所述能量施加元件(13;113;213;313)。

7.根据权利要求1所述的导管,其中,所述腔(213;313)适于允许所述磁共振流体离开所述导管(202;302),其中,所述跟踪线圈(215;315)适于在所述磁共振流体(214;314)中激励磁化,从而提高所述磁共振流体(214;314)的磁共振可视性。

8.一种磁共振流体,能够从所述磁共振流体接收磁共振信号,所述磁共振流体是用于冷却导管(2;102;202;302)的用于向对象(6)施加能量的能量施加元件(13;113;213;313)的冷却流体,所述磁共振流体适于由所述导管(2;102;202;302)的腔(12;112;212;312)提供并允许生成能够由所述导管(2;102;202;302)的跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)探测的磁共振信号,其中,所述磁共振流体包括磁共振造影剂。

9.一种用于定位导管(2;102;202;302)的磁共振成像系统(1),所述导管包括用于向对象(6)施加能量的能量施加元件(13;113;213;313);用于提供用于冷却所述能量施加元件(13;113;213;313)的冷却流体作为磁共振流体(14;114;214;314)的腔(12;112;212;312),能够从所述磁共振流体接收磁共振信号;以及用于跟踪所述导管(2;102;202;302)的跟踪线圈(15,31;115;215;315,335),所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)适于从所述磁共振流体(14;114;214;314)接收所述磁共振信号,其中,所述磁共振成像系统(1)适于在所述导管(2;102;202;302)的所述腔(12;112;212;312)中存在的磁共振流体(14;114;214;314)中生成磁共振信号,使得所生成的磁共振信号能够被所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)接收,其中,所述磁共振成像系统(1)包括导管位置确定单元(4),其基于所述跟踪线圈(15,31;115;215;315,335)接收到的所述磁共振信号确定所述导管(2;102;202;302)的位置。

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