[发明专利]氢气生成装置有效
| 申请号: | 201080009866.9 | 申请日: | 2010-04-14 |
| 公开(公告)号: | CN102369312A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
| 发明(设计)人: | 黑羽智宏;野村幸生;铃木孝浩;德弘宪一;谷口昇;羽藤一仁;德满修三 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | C25B9/00 | 分类号: | C25B9/00;C01B3/04;C25B1/04 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氢气 生成 装置 | ||
1.一种氢气生成装置,其具有:
框体,其内部能够保持液体且至少一部分能够透光;
电解液,其被保持在所述框体的内部且含有水;
光电极,其配置在所述框体的内部,具有与所述电解液相接的第一面,且通过照射透过所述框体的光来分解所述水而产生气体;
导电体,其配置在所述框体的内部,且配置在所述光电极的所述第一面的相反侧的第二面侧的区域,且具有与所述电解液相接的面,并且该导电体与所述光电极电连接,
在所述导电体的与所述电解液相接的所述面上设有沿产生的所述气体流动的方向延伸的槽部。
2.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
所述槽部具有沿产生的所述气体流动的方向以直线状延伸的形状。
3.根据权利要求2所述的氢气生成装置,其中,
所述导电体具有波纹形状,所述槽部由所述波纹形状的谷部形成。
4.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
在所述导电体的与所述电解液相接的所述面上设有多个凹部,
所述槽部通过所述多个凹部相互连结而形成。
5.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
所述导电体由金属形成。
6.根据权利要求5所述的氢气生成装置,其中,
所述导电体由Ti、Ta、Zr或Al形成。
7.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
所述槽部的深度为100μm以上2cm以下。
8.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
在所述导电体中所述槽部以外的区域的至少一部分设有助催化剂。
9.根据权利要求8所述的氢气生成装置,其中,
所述助催化剂含有从Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、Os、Au、Ag、Cu、Ni、Fe、Co及Mn中选择出的至少任一种。
10.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
在所述导电体中所述槽部以外的区域设有突起。
11.根据权利要求10所述的氢气生成装置,其中,
在所述突起上设有助催化剂。
12.根据权利要求1所述的氢气生成装置,其中,
所述槽部被实施了疏水性涂布。
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