[发明专利]等离子体坩埚的密封

权利要求书

1.一种密封被填充等离子体坩埚的方法，包括以下步骤：

·提供具有敞开的中空的透明材料的等离子体坩埚，所述中空具有开口；

·提供从坩埚的开口延伸出来的可熔化为透明材料的材料的管且将该管气密密封至与中空连通的坩埚；

·经由该管加入可激发材料到中空内；

·经由该管对中空抽真空；

·经由该管引入惰性气体到中空内；和

·通过在开口或靠近开口处密封管来密封该中空，包封可激发材料和惰性气体。

2.如权利要求1所述的密封方法，其中所述密封步骤包括压破和熔化所述管。

3.如权利要求2所述的密封方法，其中所述管被置于且被熔化到坩埚的表面上。

4.如权利要求3所述的密封方法，其中所述管被置于且被熔化到位于中空的开口处的坩埚的表面内的配对孔中。

5.如权利要求1或2所述的密封方法，包括在开口处放置可熔化为透明材料的材料的插塞的步骤，其中所述密封步骤包括熔化插塞到坩埚。

6.如权利要求5所述的密封方法，其中所述插塞被置于且被熔化到坩埚的表面上。

7.如权利要求5所述的密封方法，其中所述插塞被置于且被熔化到位于中空的开口处的坩埚的表面内的配对孔中，所述插塞和开口的形状互补用于定位插塞以使其密封在开口内，并配以留隙和/或局部成形以允许气体流出及流入中空。

8.如前面任一权利要求所述的密封方法，其中所提供的管和插塞为与坩埚相同的透明材料。

9.如前面任一权利要求所述的密封方法，包括在之前未钻孔的透明坩埚中形成中空的初始步骤。

10.如前面权利要求1至8中任一项所述的密封方法，包括密封中空的相对端的初始步骤，所述透明坩埚之前具有通孔。

11.如权利要求10所述的密封方法，其中密封中空的相对端的初始步骤包括将初始的管气密密封至与中空连通的坩埚且压破和熔化该初始的管。

12.如前面任一权利要求所述的密封方法，包括超声清洗和火焰抛光所述中空的初始步骤。

13.如前面权利要求1至6任一项所述的或从属于权利要求1至6任一项的权利要求8至12中任一项所述的密封方法，其中所述密封或每个密封的形成使中空的端部与将管密封于其上的坩埚的表面平齐。

14.如前面权利要求1至4任一项所述的或从属于权利要求1至4任一项的权利要求8至12中任一项所述的密封方法，其中所述密封或每个密封的形成使中空的一部分延伸超出将管密封于其上的坩埚的表面，由此给中空的填充物提供冷点。

15.如前面任一权利要求所述的密封方法，包括在坩埚密封处分离所述管或每个管的远离坩埚的一部分的步骤。

16.如前面权利要求1至14中任一项所述的密封方法，不包括在坩埚密封处分离所述管或每个管的远离坩埚的任何部分的步骤。

17.如前面任一权利要求所述的密封方法，其中透明的坩埚材料为多晶陶瓷。

18.如前面权利要求1至17中任一项所述的密封方法，其中透明的坩埚材料为石英。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的密封方法密封的被填充等离子坩埚，所述坩埚具有：

·从坩埚的被密封的开口处延伸出的管或其剩余部分。

20.如权利要求19所述的被填充等离子坩埚：

·从位于坩埚两端的坩埚的被密封的开口处延伸出的管或其剩余部分。