[发明专利]用于测量对象的方法

权利要求书

1.用于在使用具有像素的CT探测器的情况下校正用于CT重建的投影数据的方法，其特征在于，为了校正所采用的CT探测器的各个像素或者像素组的测量值使用不同的特性曲线。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，为了确定各个特性曲线，在计算机断层造影成像时确定各个像素或像素组的不同测量技术特性和/或伪影。

3.根据优选权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述特性曲线中考虑通过伪影造成的影响，其方式是，在CT测量期间在为了拍摄不同投影数据在不同旋转位置中确定分配给各个像素或像素组的透射长度和/或工件的几何形状。

4.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，借助几乎完整存在的投影数据和/或借助CAD模型在不同的旋转位置中确定透射长度和/或工件的几何形状。

5.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，借助在无已知特性、尤其是几何形状、的测量对象的情况下以及在有已知特性、尤其是几何形状、的测量对象的情况下对透射图像的确定来确定所述各个像素或像素组的不同测量技术特性、尤其是灵敏度和偏移。

6.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，为了校正伪影从事先确定的透射长度和/或在相应的透射方向上存在的特性几何形状中推导出一个或多个在特性曲线中考虑的参数。

7.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，从所述特性几何形状中推导出参数，其方式是，从该几何形状和/或材料顺序针对每个材料类型和布置检测透射线段，并由此推断出诸如散射辐射伪影和射线硬化伪影的伪影的构成。

8.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，从特性几何形状中推导出所述参数，其方式是，从该几何形状和/或材料顺序例如借助仿真确定各个材料片段的加权的平均透射长度或者以其它方式解析地形成的对比度比例，并由此推断出诸如散射辐射伪影和射线硬化伪影的伪影的构成。

9.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，根据工件的旋转位置和/或位置确定和使用不同的校正特性曲线。

10.根据上述权利要求中优选至少一个所述的方法，其特征在于，通过对工件的对准在工件的相应旋转位置或位置中为各个探测器像素和/或像素组选择并分配相应的特性曲线。

11.根据上述权利要求中优选之一所述的方法，其特征在于，在所述特性曲线中考虑通过伪影造成的影响，其方式是，借助工件在至少一个旋转位置和/或位置中的至少一个透射图像为所采用的CT探测器的各个像素或像素组确定共同的或不同的校正值。

12.根据上述权利要求中优选之一所述的方法，其特征在于，为了确定所述校正，使用CT探测器的像素的测量值，所述测量值绝大部分受X射线源的发出的X射线辐射的部分影响，所述部分不在直接的穿过工件的直线路径上行进。

13.根据上述权利要求中优选之一所述的方法，其特征在于，对测量值被用于确定所述校正的像素的选择通过以下方式进行，即将工件的至少一个透射图像与在无工件的至少一个透射图像进行比较，并且借助该比较选择像素的全部或一部分，其在有测量对象的透射图像中具有比在无测量对象的透射图像中更高的测量强度，或者在有工件的透射图像内选择测量值被用于所述校正的像素，其方式是，将至少一个仅受X射线源的发出的X射线辐射的未穿过工件行进的部分影响的像素与至少一个具有更高测量强度的像素相比较。

14.根据上述权利要求中优选之一所述的方法，其特征在于，借助所选择的像素确定的校正值被同样地应用于其所有像素的特性曲线，所述像素接收在从X射线源穿过工件的直接路径上行进的X射线辐射，或者所述校正根据分配给各个像素或像素组的透射长度和/或工件的几何形状和/或材料顺序在不同的旋转位置和/或位置中进行。

15.根据上述权利要求中优选之一所述的方法，其特征在于，被用于确定所述校正的像素的测量值在位于X射线源与X射线探测器之间的工件的一个或多个不同位置中，尤其是在不同的放大设定下被确定和/或组合，并且在不同的放大设定下被应用，例如通过采用内插方法。