[发明专利]包括光检测器的结构单元及将这种结构单元装配到诸如印刷电路卡之类的载体的方法无效

专利信息
申请号: 201080006520.3 申请日: 2010-02-08
公开(公告)号: CN102308205A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 汉斯·戈兰·埃瓦尔德·马丁 申请(专利权)人: 森谢尔公司
主分类号: G01N27/407 分类号: G01N27/407;G01N33/00;H01L23/58
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;宋志强
地址: 瑞典代*** 国省代码: 瑞典;SE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 检测器 结构 单元 这种 装配 诸如 印刷 路卡 之类 载体 方法
【权利要求书】:

1.一种包括光检测器的结构单元(“K”),该结构单元作为分立单元能安装到例如印刷电路卡形式的载体(“B1”)上,并且其中所述结构单元(“K”)适于能包括在与气体传感器相关的设备(“A”)中,其中这种设备适于包含产生光的第一装置(1)、接收光的第二装置(2)和用于在所述第一装置(1)与第二装置(2)之间形成并限定使气体样本(“G”)通过的光学计量长度的第三装置(3)以及控制单元(20),其中所述第二装置(2)适于形成所述结构单元(“K”),所述结构单元被指派有多个第一连接器件(4,4a),所述多个第一连接器件沿所述结构单元的第一表面部分(5)适配和分布,用于方便地电连接到与所述载体(“B1”)相关的第二连接器件((4),(4a)),

其特征在于,所述结构单元(“K”,2)适于能附接到或能放置于形成在所述载体(“B1”)中的用于形成孔径的半透明凹槽(“Ba”)的附近;所述结构单元包括内置的光电传感器(44),并且能放置在所述载体(“B1”)的一个侧面(“B1a”)上,同时所述第一光产生装置(1)能定向在距或沿所述载体的另一相对侧面(“B1b”)的适当距离处;并且所述光电传感器(44)及其光敏表面区域受到透明的或者在任何情况下为部分或不完全透明的盖板(44a,44b)的保护,所述盖板可替代地为滤光片(44b′)。

2.根据权利要求1所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述盖板定向在接近所述载体的侧面的位置处,被形成为覆盖所述凹槽的尺寸,并且所述盖板直接或间接附接到所述载体的一个和/或另一侧面。

3.根据权利要求1或2所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述盖板被指派为光学干涉滤光片的形式。

4.根据权利要求1、2或3所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,指派给所述凹槽的、位于连接到所述载体的一个侧面的平面中的表面延伸被划界为一隔膜开口,所述隔膜开口具有连接到并且大于或稍小于所述光电传感器的总光敏表面区域的表面延伸的表面延伸。

5.根据权利要求4所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述载体中的凹槽的表面延伸适配于所述光敏表面区域的中心表面部分。

6.根据权利要求1所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述凹槽具有在0.2与20mm2之间例如大约1到5mm2的截面面积。

7.根据权利要求1所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述凹槽具有通过所述载体的、连接到所述光的传播方向的、在0.1与5mm之间例如1到2mm的长度。

8.根据权利要求1所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,热覆盖层适于环绕所述第二装置(2)至所述载体的侧面。

9.根据在前权利要求中任一项所述的包括光检测器的结构单元,

其特征在于,所述凹槽被指派为直接穿过所述载体的通孔的形式,并且其中形成所述通孔的表面部分被处理为展示出高反射特性。

10.一种允许将例如根据在前权利要求中一个以上所述的一个以上结构单元叠置于诸如印刷电路卡之类的载体上的方法,其中所述载体适于在多个方法步骤中被连续处理为成品或半成品,所述载体被指派有穿越所述载体的多个凹槽,并且其中所选择的分立结构单元适于与所选择的凹槽相邻放置在所述印刷电路卡的一侧上,并且其中所述结构单元适于包含传感器单元,

其特征在于,一旦所述分立结构单元附接到所述载体的第一表面区域,指派给所述传感器单元的、定向在所述结构单元中且连接到在所述结构单元中形成的开口的敏感表面区域,就适于与所述凹槽协作;并且所述凹槽适于用作朝向所述敏感表面区域的开口通道,以便允许从所述载体的另一侧面向所述敏感表面区域传递一成分,用于在所述表面区域中进行反应。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,IR光被选择为成分。

12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,压力、正压力、负压力或差分压力被选择为成分。

13.根据权利要求10或11所述的方法,其特征在于,所述开口通道被透明盖板覆盖。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于森谢尔公司,未经森谢尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080006520.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top