[发明专利]涂敷装置无效

专利信息
申请号: 201080005657.7 申请日: 2010-01-25
公开(公告)号: CN102300644A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 伊原一彦 申请(专利权)人: 芝浦机械电子株式会社
主分类号: B05C13/00 分类号: B05C13/00;B05C9/12;H01L21/027
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 庞乃媛;黄剑锋
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及将从涂敷头的喷嘴喷出的溶液的液滴涂敷到基板上的涂敷装置。

背景技术

通常,在液晶显示装置、半导体装置的制造工序中,有用于在玻璃基板、半导体晶片等的基板上形成电路图案的成膜过程。在该成膜过程中,在基板的板面上形成例如取向膜、抗蚀剂等功能性薄膜。

在基板上形成功能性薄膜的情况下,有采用喷射(inkjet)方式的涂敷装置的情况,该喷射方式是将形成该功能性薄膜的溶液从喷嘴喷出并涂敷到基板上的方式。

关于该涂敷装置,如专利文献1的记载,具有输送基板的输送台,在该输送台的上方,沿着与基板输送方向正交的方向排列设置有多个穿设有上述喷嘴的涂敷头。溶液从经由供给管与各涂敷头连接的溶液罐供给到各涂敷头。由此,从多个喷嘴以规定量、规定间距向所输送的基板的上表面喷出溶液的液滴。

在这样的现有技术中,为防止基板的不良品的发生,通过照相机对涂敷于基板的溶液的液滴进行拍摄,通过图像处理装置对基于照相机的拍摄结果的该液滴的喷出状态进行测定并检查。此外,用于检查的基板被洗涤并反复使用。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2004-223356号公报

在现有技术中,在涂敷装置内,向由基板保持装置保持的基板涂敷从涂敷头的各喷嘴所喷出的液滴,通过照相机对涂敷于该基板的液滴进行拍摄之后,将基板从基板保持装置取出并投放到涂敷装置外的洗涤机构。

但是,在将用于检查的基板投放到洗涤机构中时,必须将该基板从基板保持装置拆下,在进行检查时需要向基板保持装置安装新的基板,因此,需要花费精力进行基板的安装、拆下,从而生产效率差。

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的课题在于,生产效率良好地对从涂敷头的喷嘴所喷出的液滴的喷出状态进行检查。

解决技术问题所采用的手段

本发明为解决上述技术问题,提供一种涂敷装置,将从涂敷头的喷嘴喷出的溶液的液滴涂敷到基板上,其特征在于,具备:

检测机构,根据涂敷到基板上的溶液的液滴的涂敷状态,检测该液滴的喷出状态;

洗涤机构,对涂敷有上述溶液的液滴的基板进行洗涤;以及

基板保持移动机构,保持上述基板,并使该基板循环移动,以使该基板依次位于基于上述涂敷头的溶液的喷出作业位置、基于检测机构的检测作业位置、基于洗涤机构的洗涤作业位置中的各个位置。

发明效果

根据本发明,能够保持将基板保持于基板保持移动机构的状态而按顺序地对该基板实施如下各作业,即:喷嘴进行的溶液的喷出,检测机构进行的检测,洗涤机构进行的洗涤,从而提高生产效率。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式的涂敷装置的示意主视图。

图2是表示涂敷装置的示意侧视图。

图3是表示涂敷头的剖视图。

图4是表示涂敷头的仰视图。

具体实施方式

图1和图2所示的本发明的溶液的涂敷装置100具有基座(base)1。在基座1的上表面,沿基座1的长度方向铺设有以规定间隔而分开的一对轨道2。台3可行走地设置于上述轨道2,通过未图示的驱动源而被行走驱动。在台3的上表面设有多个支撑销4,例如用于液晶显示装置的玻璃制的制品用基板W被供给并支撑于这些支撑销4。

在与上述台3一起移动的基板W的上方,多个涂敷头、在本实施方式中为3个涂敷头7沿着与基板W的移动方向交叉的方向、例如正交的方向而配设为一列,该多个涂敷头7以喷射方式将用于形成功能性薄膜的溶液喷出并涂敷到上述基板W上。

上述涂敷头7如图3所示地具备涂敷头主体8。涂敷头主体8形成为筒状,其下面开口被可挠板9所封闭。该可挠板9被喷嘴板材11覆盖,在该喷嘴板材11与上述可挠板9之间间隔形成有多个液室12。

在上述涂敷头主体8的长度方向一端部,形成有与上述液室12连通的供液孔13。从该供液孔13向上述液室12供给例如形成取向膜、抗蚀剂等功能性薄膜的溶液。由此,使得上述液室12内被溶液充满。

如图4所示,在上述喷嘴板材11,沿着与基板W的输送方向正交的方向而交错地穿设有多个喷嘴14。在上述可挠板9的上表面,如图3所示地分别与上述各喷嘴14对置而设置有多个压电元件15。

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