[发明专利]X射线成像装置和X射线成像的方法

权利要求书

1.一种X射线成像装置，包括：

分离元件，在空间上分离由X射线生成器生成的X射线；

第一衰减元件，被分离元件分离的X射线入射到该第一衰减元件上；

第二衰减元件，被分离元件分离的X射线入射到该第二衰减元件上，第二衰减元件被设置成与第一衰减元件相邻；以及

检测单元，被配置成检测已穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度，

其中，第一衰减元件和第二衰减元件被配置成使得X射线的透过量根据X射线的入射位置而连续变化，以及，

其中，第一衰减元件和第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性相互不同。

2.根据权利要求1的X射线成像装置，进一步包括：

计算单元，被配置成使用根据检测单元所检测的X射线的强度计算的X射线透过率，来计算被检物的微分相位图像或相位图像。

3.根据权利要求2的X射线成像装置，

其中，计算单元根据检测单元所检测的X射线的强度来计算被检物的透过率图像。

4.根据权利要求1～3中的任一项的X射线成像装置，

其中，第一或第二衰减元件的厚度在与X射线入射到第一或第二衰减元件上的方向垂直的方向上连续变化。

5.根据权利要求4的X射线成像装置，

其中，第一或第二衰减元件是具有三角棱柱形状的结构。

6.根据权利要求1～5中的任一项的X射线成像装置，

其中，第一或第二衰减元件的密度在与X射线入射到第一或第二衰减元件上的方向垂直的方向上连续变化。

7.一种在X射线成像装置中使用的X射线成像的方法，该方法包括：

生成X射线；

在空间上分离X射线；

使得已被在空间上分离的X射线入射到第一衰减元件和第二衰减元件上，第二衰减元件被设置成与第一衰减元件相邻；

检测已穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度；以及

使用X射线透过率来计算被检物的微分相位图像或相位图像，X射线透过率是根据检测到的X射线的强度计算的，

其中，第一衰减元件和第二衰减元件被配置成使得X射线的透过量根据X射线的入射位置而连续变化，并且，

其中，第一衰减元件和第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性相互不同。

8.一种X射线成像装置，包括：

第一元件，被配置成获得第一强度数据；

第二元件，被配置成获得第二强度数据，第二元件被设置成与第一元件相邻；以及

计算单元，被配置成使用第一和第二强度数据来计算被检物的X射线透过率。

9.根据权利要求8的X射线成像装置，

其中，计算单元被配置成基于计算单元所计算的X射线透过率，使用第一或第二强度数据来计算X射线的相移的量，X射线的所述相移是由被检物引起的。

10.一种X射线成像方法，包括：

使用第一元件来获得第一强度数据；

使用第二元件来获得第二强度数据，第二元件被设置成与第一元件相邻；以及

使用第一和第二强度数据来获得被检物的X射线透过率。

11.根据权利要求10的X射线成像方法，进一步包括：

基于X射线透过率，使用第一或第二强度数据来获得X射线的相移的量，所述相移是由被检物引起的。