[实用新型]高纯金属制粒炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种制粒炉，具体是一种高纯金属制粒炉。

背景技术

高纯金属是现代许多高新技术的综合产物，随着半导体技术、宇航、无线电电子学等的发展，对高纯金属的要求越来越高。为了提高金属纯度，主要采用化学方法和物理方法。其中物理提纯法主要是：利用蒸发、凝固、结晶、扩散、电迁移等物理过程除去杂质。为了便于运输、储存以及使用等，往往需要对高纯金属进行制粒加工。而现有的高纯金属制粒炉均在一定程度上存在结构复杂、制粒时容易沾污以及不能有效的防止金属粒氧化等缺陷。因此需要对这些制粒炉做进一步改进。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单，操作方便，有效防止金属氧化，不易被沾污的高纯金属制粒炉。

本实用新型的技术方案是：一种高纯金属制粒炉，包括装料漏斗、加热器、储粒釜，其特征在于：所述储粒釜上端口处设有装料漏斗，装料漏斗顶端设有压盖，储粒釜下端口设有出料阀；所述储粒釜上端出口四周还设有加热器，出口内与装料漏斗之间设有支架；储粒釜本体上设有依次设有出气孔、出水孔、进气孔和进水孔。

本实用新型中所述装料漏斗上端还设有进气口。

本实用新型中所述出气孔、出水孔、进气孔和进水孔是从上到下依次间隔设置。

本实用新型的优点是，在储粒釜上设置供保护性气体（多采用惰性气体）进出的进气孔和出气孔，使保护性气体在储粒釜内能有效地防止了高纯金属氧化；本实用新型密封性能好，工作环境为密封环境能有效的防治高纯金属被沾污。

附图说明

图1、本实用新型结构示意图

图中：1-装料漏斗；2-加热器；3-储粒釜；4-压盖；5-出料阀；6-进气口；7-支架；8-出气孔；9-出水孔；10-进气孔；11-进水孔。

具体实施方式

本实用新型按上述技术方案实施，下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步描述，但本实用新型的保护范围并不仅限于以下实施方式。

如图1所示：一种高纯金属制粒炉，包括装料漏斗1、加热器2、储粒釜 3。储粒釜3内腔装有冷却液，且储粒釜3上端口处设有装料漏斗1，装料漏斗1顶端设有压盖4，储粒釜3下端口设有出料阀5。所述储粒釜3上端出口外四周还设有加热器2，出口内与装料漏斗之间设有支架7；储粒釜3本体上设有依次设有出气孔8、出水孔9、进气孔10和进水孔11。

所述装料漏斗1上端还设有进气口6。

所述出气孔8、出水孔9、进气孔10和进水孔11是从上到下依次间隔设置。在储粒釜3本体上设置这些出气孔能有效地防止金属氧化。