[实用新型]一种真空双面曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体设备领域，尤其涉及到一种真空双面曝光装置。

背景技术

由于曝光在半导体行业中设备成本高，在教学及科研单位使用时造成成本浪费，及投资费用较大，本曝光设备可以达科研单位，IC成像曝光并且在教学中可以提供PCB制作成像功能，减少投入开支，达到科研及教学适用目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的不足之处而提供一种结构简单、方便实用的新型的真空双面曝光装置。

本实用新型是通过如下方式实现的：

一种真空双面曝光装置，其特征在于：主要包括有曝光装置和真空装置，所述的曝光装置由上机盖1与下机盖8通过铰链11连接而成；

所述的上机盖1呈箱体状，其内装设有上曝光灯管3，上机盖1内表面水平铺设有一曝光源挡板4；

所述的下机盖8呈箱体状，其内装设有下曝光灯管10；下机盖8前端装设有控制面板7；

所述的真空装置主要包括有真空架5和气泵12，所述的真空架5是由上真空架与下真空架采用合页连接，卡扣闭合而成；

所述的真空架5设于下机盖8的曝光灯管10的上方，所述的气泵12设于下机盖8内部；气泵12与真空架5内部相连通。

所述的上机盖1与下机盖8通过上卡扣2与下卡扣6相扣合。

所述的下机盖8侧边装设有拉手9。

所述的上曝光灯管3呈水平或竖直方向装设于上机盖1箱体内部；所述的下曝光灯管10呈水平或竖直方向装设于下机盖8箱体内部。

所述的上真空架与下真空架呈透明平板状，四周嵌有金属护框。

本实用新型由控制面板开关进行控制，成像物体可通过真空架进行真空吸附后吸平拉紧，再将上机盖关下，进行上下卡扣后，控制面板控制，最后报警完成结束，即可完成集成电路，PCB，半导体的成像工艺。

综上所述，本实用新型结构简单、操作方便实用的一种真空双面曝光装置。

附图说明

图1本实用新型结构示意图；

图2本实用新型内部单片机控制原理图；

图3本实用新型控制原理图。

具体实施方式

现结合附图，详述本实用新型具体实施方式：

如图1、图2、图3所示，一种真空双面曝光装置，其特征在于：主要包括有曝光装置和真空装置，所述的曝光装置由上机盖1与下机盖8通过铰链11连接而成；

所述的上机盖1呈箱体状，其内装设有上曝光灯管3，上机盖1内表面水平铺设有一曝光源挡板4；

所述的下机盖8呈箱体状，其内装设有下曝光灯管10；下机盖8前端装设有控制面板7；

所述的真空装置主要包括有真空架5和气泵12，所述的真空架5是由上真空架与下真空架采用合页连接，卡扣闭合而成；

所述的真空架5设于下机盖8的曝光灯管10的上方，所述的气泵12设于下机盖8内部；气泵12与真空架5内部相连通。

所述的上机盖1与下机盖8通过上卡扣2与下卡扣6相扣合。

所述的下机盖8侧边装设有拉手9。

所述的上曝光灯管3呈水平或竖直方向装设于上机盖1箱体内部；所述的下曝光灯管10呈水平或竖直方向装设于下机盖8箱体内部。

所述的上真空架与下真空架呈透明平板状，四周嵌有金属护框。

本实用新型由控制面板7开关进行控制，成像物体可通过真空架5进行真空吸附后吸平拉紧，再将上机盖1关下，进行上下卡扣2、6后，控制面板7控制，最后报警完成结束，即可完成集成电路，PCB，半导体的成像工艺。

具体实施方式：连接电源线并开启主机电源。然后将要曝光成像的物件放入真空架5内，并开启气泵12进行抽真空，当真空度达到要求时，盖上上机盖1。再将开启曝光电源及设定曝光时间。曝光时间完成后，报警，此时关掉曝光电源。打开上机盖1，取出曝光后的物件。