[实用新型]新型磨块抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种抛光设备，特别涉及一种用于对建筑材料进行抛光的磨块抛光装置。

背景技术

目前，国内外针对陶瓷坯体的磨削、抛光砖的防污打蜡一般采用在一个大的磨盘上安装磨块，磨块仅随磨盘公转，而没有自转，工作效率低；用于加工陶瓷、石板材的抛光机采用的是磨头自转结合垂直于输送带运动方向的往复运动，不仅工作效率低，而且设备造价昂贵，还容易因磨损而失效；金属薄板表面抛光采用的是电机“品”字形排列，此种抛光设备工作效率不高、加工出来的产品表面均匀性差；还有少量的刨坯单机采用行星式传动，但设备造价高，功耗大，无法进行普遍推广及应用。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种磨块抛光装置，结构新颖，利用行星传动原理，工作效率高、造价低，可广泛应用于建筑陶瓷、石材、装饰板材加工领域。

本实用新型的技术方案是：一种新型磨块抛光装置，包括主电机、主轴、转盘、次电机及磨块，主电机通过传送带与主轴的上端相连，转盘安装于主轴的下端，次电机设于转盘上方，且与安装在主轴上端的电刷电连接，所述的次电机和磨块的数量分别为三个，所述的三个磨块分别设于转盘下方且与对应的次电机相连。

本实用新型可以作以下改进，所述的主轴与转盘之间设有可使所述的三个磨块贴紧待加工表面进行加工的弹性元件。

本实用新型所述的弹性元件为弹性橡胶垫。

本实用新型还可以作以下改进，每个所述的次电机的轴中心设有用于冷却电机自身及冲刷加工表面和磨块的加水嘴，相应地，所述的主轴上设有集水环，该集水环与所述的加水嘴通过水管相连。

本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型的磨块抛光装置，结构新颖，磨块工作时可实现行星运动，即既可以以主轴为中心公转，又可以在次电机的驱动下自转，大大提高了抛光机的工作效率；通过选用不同种类的磨块，可进行特种磨削，精密抛光，防污打蜡等；本实用新型可广泛应用于建筑陶瓷、石材、装饰板材加工领域；

(2)由于在主轴和转盘之间增设了弹性元件，使转盘可以上下摇动，以确保三个磨块在工作时一直保持贴紧待加工表面；

(3)次电机轴中心处可加水冷却电机自身及冲刷加工表面及磨块，有利于切削渣的排除。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图，图中省略了两个次电机及其对应的磨块；

图2是图1的A部局部放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

本实用新型的具体实施方式如图1、图2所示，一种新型磨块抛光装置，包括主电机1、主轴4、转盘9、次电机8及磨块10，主电机1通过传送带2与主轴4的上端相连，转盘9安装于主轴4的下端，次电机8设于转盘9上方，且与安装在主轴4上端的电刷3电连接，次电机8和磨块10的数量分别为三个，三个磨块10分别设于转盘9下方且与对应的次电机8相连。

本实施例中，主轴4上设有升降架5，升降架5与安装于固定底座7上的气缸6相连。主轴4与转盘9之间设有可使三个磨块10贴紧待加工表面进行加工的弹性元件。该弹性元件为弹性橡胶垫13。每个次电机8的轴中心设有用于冷却电机自身及冲刷加工表面和磨块10的加水嘴14，相应地，主轴4上设有集水环15，该集水环15与加水嘴14通过水管相连。三个次电机8在转盘9上表面均匀布置。三个磨块10的底面位于同一水平面上。

本磨块抛光装置工作时，先通过传送装置将工件11送上工作台12，随后利用气缸6带动升降架5上下运动，升降架5同时带动主轴4和转盘9上下移动，从而调整磨削高度。主电机1和次电机8开始工作后，转盘9带动三个磨块10以主轴4为中心旋转，同时，次电机8带动磨块10自身开始旋转，实现对工件11的磨削。

上述的实施例仅为本实用新型的优选实施例，不能以此来限定本实用新型的权利范围，因此，依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。