[实用新型]一种用于核微孔膜生产过程的防护结构无效
| 申请号： | 201020665352.6 | 申请日： | 2010-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN201970545U | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 崔清臣;凌红旗;晏光明;黄海龙 | 申请（专利权）人： | 中山国安火炬科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B32B37/12 | 分类号： | B32B37/12;B32B38/04;B32B38/10 |
| 代理公司： | 中山市汉通知识产权代理事务所 44255 | 代理人： | 田子荣 |
| 地址： | 528437 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 微孔 生产过程 防护 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层上相对与第一膜层复合面的另一面复合有一个用于形成第二核微孔膜的第二膜层，在该第二膜层相对与保护膜层复合面的另一面上认为不需要微孔的位置涂布有第二防护层。
2.根据权利要求1所述一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，其特征在于：所述的第一膜层、第二膜层是在涂布离型层后通过黏合剂与保护膜层结合。
3.根据权利要求1或2所述一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，其特征在于：所述的第一膜层、第二膜层和保护膜层为PET膜。
4.根据权利要求1或2所述的一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，其特征在于：防护层采用抗酸碱蚀刻和防辐照材料制作。
5.根据权利要求1或2所述的一种用于核微孔膜生产过程的防护结构，其特征在于：防护层采用抗酸碱蚀刻材料制作。
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