[实用新型]一种直拉单晶炉用热屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种直拉单晶炉用热屏，属于单晶硅的生产制造设备领域。

背景技术

单晶硅作为一种半导体材料，一般用于制造集成电路和其他电子元件，单晶硅的生长技术有两种：区熔法和直拉法，其中直拉法是目前普遍采用的方法。直拉法是通过电阻加热，将装在石英坩埚中的多晶硅熔化，并保持略高于硅熔点的温度，在惰性气体的保护下，经过引晶、放肩、转肩、等径、收尾、晶体取出等步骤，完成晶体生长。最开始的直拉单晶炉热场是开放式的，为了增加热场保温，降低能量的损失，在原有开放式热场基础上增加热屏装置改进为现有的密闭式热场。目前普遍采用的热屏一般为单层的圆筒型(如图1所示)或圆锥型(如图2所示)，其热场保温效果还不理想，热量还存在较大损耗。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种能有效减少热能损耗的直拉单晶炉用热屏。

本实用新型的目的是这样实现的：一种直拉单晶炉用热屏，其特点是：它包括外层和内层，所述外层和内层固定连接，且所述外层和内层之间设置有保温层。

所述外层和内层均采用等静压石墨制成。

所述保温层的材料为石墨毡。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型一种直拉单晶炉用热屏，它包括外层和内层，且外层和内层还设置有保温层，其保温层材料为石墨毡，其热传导系数较小，所以此种热屏隔热性能较好，热能损耗较少。

附图说明

图1为背景技术所述的单层圆筒型热屏的结构示意图。

图2为背景技术所述的单层圆锥型热屏的结构示意图。

图3为本实用新型一种直拉单晶炉用热屏的结构示意图。

其中：

外层1、保温层2、内层3。

具体实施方式

参见图1，本实用新型涉及的一种直拉单晶炉用热屏，它包括外层1和内层3，所述外层1和内层3固定连接，且所述外层1和内层3之间设置有保温层2。

所述外层1和内层3均采用等静压石墨制成，所述保温层2的材料为石墨毡。石墨毡的密度相对石墨较低，它的热传导系数相对石墨也大大降低，是广泛运用的绝热材料之一，此种热屏相对单层的圆筒型和圆锥型热屏的绝热性能提高10%。