[实用新型]手模书画装置、手模书画层、以及手模书画有效
| 申请号: | 201020645545.5 | 申请日: | 2010-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN201989538U | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
| 发明(设计)人: | 陈维伟 | 申请(专利权)人: | 陈维伟 |
| 主分类号: | B44C5/00 | 分类号: | B44C5/00;B44C5/04;B44C3/04 |
| 代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 郭伟刚 |
| 地址: | 518040 广东省深圳市南山区白*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 手模 书画 装置 以及 | ||
1.一种手模书画装置,包括主体,其特征在于,在所述主体上设置有至少一能够塑形的模体;所述模体上设置有至少一凹形的手模印;所述模体的表层上设置有书画层。
2.根据权利要求1所述的手模书画装置,其特征在于,所述主体上还包括至少一模体安装位,所述模体设置在所述模体安装位上。
3.根据权利要求2所述的手模书画装置,其特征在于,所述模体安装位为凹槽;所述凹槽的外形为椭圆形、圆形、正方形、矩形、或者菱形。
4.根据权利要求1述的手模书画装置,其特征在于,所述书画层包括至少一个绘制或涂制而成的书法层和/或至少一个绘制或涂制而成的图画层。
5.根据权利要求4所述的手模书画装置,其特征在于,在所述模体上相互错开的位置分别设置所述书画层和手模印。
6.根据权利要求5所述的手模书画装置,其特征在于,在所述模体上相互叠加的位置分别设置所述书画层和手模印,所述书画层设置在所述凹形的手模印上。
7.根据权利要求1所述的手模书画装置,其特征在于,所述主体上固定设置有透光板、半透光板、或者不透光板;所述透光板、半透光板、或者不透光板遮挡设置在所述模体上。
8.根据权利要求1-7任一项所述的手模书画装置,其特征在于,所述主体为挂饰品、摆饰品、地面砖、墙面砖、纪念碑、纪念墙、友谊墙、奖牌、或者奖杯。
9.一种手模书画层,其特征在于:包括塑形模体,所述塑形模体上设置有凹形的手模印;所述塑形模体上通过印制设置有匀质的书画层,或者,所述塑形模体上通过书写、书法或涂制设置有非匀质的书画层。
10.根据权利要求9所述的手模书画层,其特征在于,所述塑形模体与所述书画层之间涂制或刷制一层涂刷层,所述书画层印制或绘制或涂制在所述涂刷层上。
11.根据权利要求10所述的手模书画层,其特征在于,所述涂刷层为仿玉漆层、或者镀金层。
12.一种手模书画,其特征在于:包括两个及两个以上塑形模体;所述塑形模体上设置有凹形的手模印;所述塑形模体上设置有书画层;所述塑形模体之间相互组合拼接形成整体图案或文字。
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