[实用新型]投射式电容触控面板用双面导电膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种投射式电容触控面板用双面导电膜。

背景技术

根据全球平面显示产业研究机构Display Search最新发表的2010触控面板市场出货预测分析报告中预测，投射电容式触控面板的出货量将大幅度成长，预计2010年投射电容式触控面板出货产值将超越电阻式触控面板出货产值，成为触控面板的主要应用技术。苹果公司广泛的应用投射式电容技术在自身产品上，如2007年推出的iphone和ipod，以及2010年推出的ipad都取得了很好的市场反响。

所谓的投射式电容触控技术为透过捕捉电极间的电容变化，进行触控位置侦测。由于人体会携带水分，已是优秀的导体，因此当人体靠近电极时，手指与电极之间的电容值会增加，此时只要调查出哪条线的静电容量变大，就可得知哪个点被触控了，因为此种触控机制具备多项优势，也成为目前电子产品的触控解决方案首选，连带导致配套的透明导电膜技术得以长足发展。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种投射式电容触控面板用导电膜。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：

投射式电容触控面板用双面导电膜，基材为PET膜，特点是：所述PET膜的正面涂有表面改性层，所述表面改性层上设有抗反射层，所述抗反射层上溅镀有蚀刻透明导电层；所述PET膜的背面也涂有表面改性层，所述表面改性层上也设有抗反射层，所述抗反射层上也溅镀有蚀刻透明导电层。

进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜正面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。

更进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜背面的蚀刻透明导电层上覆有PE保护膜。

再进一步地，上述的投射式电容触控面板用双面导电膜，所述PET膜正面的抗反射层和PET膜背面的抗反射层均由两种折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于100nm。

本实用新型技术方案的实质性特点和进步主要体现在：

PET膜正面的抗反射层和PET膜背面的抗反射层均由两种折射率不同的透明层组成，光线经由具有不同折射率的抗反射层时，会产生部分穿透部分反射的效果，因此反射光的波形会形成破坏性干涉，消除98％以上外在环境的反射光，达到提高画面显示效果的作用；PET膜正面的蚀刻透明导电层和PET膜背面的蚀刻透明导电层使用真空溅镀的方式溅镀纳米铟锡金属氧化物，然后用蚀刻液对透明导电层进行图形蚀刻，形成投射电容式触控面板铺设线路需要的图形；导电层是直接在抗反射层上通过真空溅镀的方式形成，省去了使用光学胶粘贴导电膜的步骤，大大节省了制造成本，较好地应用于投射电容式触控面板上。

附图说明

下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：

图1：本实用新型的截面示意图；

图中各附图标记的含义：

1-PET膜，2-表面改性层，3-抗反射层，4-蚀刻透明导电层，5-PE保护膜，6-表面改性层，7-抗反射层，8-蚀刻透明导电层，9-PE保护膜。

具体实施方式

针对投射电容式触控面板开发一种投射式电容触控面板用导电膜，如图1所示，基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET膜1，PET膜1的透光率在90％以上，介电强度为16.9KV/mm，可阻挡紫外线，气体和水蒸气渗透率低；PET膜1的正面涂有表面改性层2，表面改性层2上设有抗反射层3，抗反射层由两个折射率不同的透明层组成，其表面粗糙度小于100nm，抗反射层3上溅镀有蚀刻透明导电层4，蚀刻透明导电层4蚀刻后覆上PE保护膜5；PET膜1的背面涂有表面改性层6，表面改性层6上也设有抗反射层7，抗反射层7上也溅镀有蚀刻透明导电层8，蚀刻透明导电层8蚀刻后覆上PE保护膜9。

其中，PET膜正面的表面改性层2和PET膜背面的表面改性层6可通过辊涂或喷涂方式中任一种实施；PET膜正面的蚀刻透明导电层4和PET膜背面的蚀刻透明导电层8的材料为纳米铟锡金属氧化物，其中Ln₂O₃和Sn₂O₃的比例为9∶1；对PET膜正面的蚀刻透明导电层4和PET膜背面的蚀刻透明导电层8进行图形蚀刻使用的蚀刻液是草酸和三氯化铁水溶液的混合液，其中草酸和三氯化铁水溶液的配比为1∶1。