[实用新型]一种斜二测几何画板无效

专利信息
申请号: 201020609366.6 申请日: 2010-11-16
公开(公告)号: CN202038063U 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 王旭 申请(专利权)人: 王旭
主分类号: B43L13/00 分类号: B43L13/00;B43L13/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300040 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 斜二测 几何 画板
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种文具附件,特别涉及一种斜二测几何画板。 

背景技术

斜二测画法: 

从右/左上角往下看到的几何图形的的直观图的画法,叫做斜二测画法。每个垂直的夹角都应是135度,90度及45度,看不见的部分用虚线表示。 

斜二测画法: 

建立适当的平面直角坐标系 

建立X’轴与Y‘轴成45°的坐标系 

平行于X轴的线段仍平行于X’轴,长度不变 

平行于Y轴的线段仍平行于Y‘轴但长度减半 

对于立体也就是三维图形也有将X、Y轴均缩小为二分之根号二倍,交角45度或135度,Z轴的长度不变。 

人们平时进行斜二测作图时,需要针对每个点先用量角器做出与点对应的Y’轴,再用刻度尺将已确定的Y轴点的Y’轴对应点依次描出,以出现量角的偏差,且逐个点依次使用量角器和刻度直尺操作繁杂,以至于耗时费力,还有很大的可能出现误差。因此,不需要量角器的使用,直接地确定对应点,减少操作过程成为了该技术的核心发明点。 

目前,虽然已有画板能够根据几何模型画出斜二测图形,但还存在单模型单图形的局限性,不能够解决普遍的广泛的图形便捷的斜二测画法问题,适应范围较窄。 

发明内容

本发明的目的在于克服上述不足之处,提供一种结构简单轻巧、实用性强、应用范围广的斜二测几何画板。 

为实现上述目的本发明所采用的技术方案是:一种斜二测几何画板,其特征在于由板面、镂空几何图形和板面中的底线及刻度线配合形成一体,所述板面即透明塑料板;所述镂空几何图形具有一定的宽度,镂空几何图形与所述板面底线形成相应的平面45度位置关系。 

本发明的有益效果是:该结构设计中透明的几何画板,最主要是为了使画板底线能够透过画板与平面直角坐标系相重合。然后镂空几何图形与画板底线形成45度的平面位置关系,并在镂空的边缘配上刻度尺,从而达到了无需量角器的使用,直接根据两个刻量数2∶1的关系定点的简化作图过程的目的。这正是区别于之前的定模型画板的根本不同之处。该结构中的对称设计,只需要倒转画板,就能够达到斜左或斜右的作图效果,以满足不同的需要。另加量角器功能,以充分利用空间并为其他制图提供了方便,且本尺支持刻度直尺功能,所以本尺几乎满足了基本作图的需要,便于日常使用。本发明结构简单,设计合理,造型轻巧,使用方便,成本低廉,适应范围宽。该斜二测几何画板使使用者感到省时、省力,方便快捷,应用广泛。 

广泛的适用性、实用性及操作的简单性、安全性既是本技术方案的显著特征,也必将成为产品市场化的优势。 

本发明将真正克服学生上课作图慢的问题,达到提高人们做立体直观图的效率的目的,大大减少了作图的过程中原来必需的琐碎过程,从而便利了制图这一枯燥的过程。 

附图说明

图1是本发明结构示意图。 

图中:1板面,2镂空几何图形,3画板底线及刻度线,4量角器。 

具体实施方式

以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提供的具体实施方式、结构、特征详述如下: 

如图1所示,一种斜二测几何画板,由板面1、镂空几何图形2和板面中 的画板底线及刻度线3配合形成一体,所述板面1即透明塑料板;所述镂空几何图形2具有一定的宽度,镂空几何图形2与所述画板底线及刻度线3形成相应的平面45度位置关系。其特征在于该结构设计中透明的几何画板,最主要是为了使画板底线及刻度线3能够透过画板与平面直角坐标系相重合。然后镂空几何图形2与画板底线及刻度线3形成45度的平面位置关系,并在镂空几何图形2的边缘配上刻度尺,从而达到了无需量角器的使用,直接根据两个刻量数2∶1的关系定点的简化作图过程的目的。这正是区别于之前的定模型画板的根本不同之处。该结构中的对称设计,只需要倒转画板,就能够达到斜左或斜右的作图效果,以满足不同的需要。另加量角器4功能,以充分利用空间并为其他制图提供了方便,且本尺支持刻度直尺功能,所以本尺几乎满足了基本作图的需要,便于日常使用。 

使用时只需依次使用本画板确定出特殊点,然后依次相连即可得斜二测画法图像。 

本发明适应范围宽,使用非常简单,省时省力,精准度高的效果非常显著。 

上述参照实施例对斜二测几何画板进行的详细描述,是说明性的而不是限定性的,可根据需要制成各种不同的规格,因此在不脱离本发明总体构思下的变化和修改,应属本发明的保护范围之内。 

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