[实用新型]一种无蜡抛光操作台

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种抛光机构，主要涉及一种用于硅片抛光的抛光操作台。

背景技术

硅片作为在我们最为常用的一种半导体器材，已融入到我们生活的方方面面之中，比如随着微电子技术的进步，体积小巧而功能强大的硅片，不单单正悄悄走进航空航天、工业、农业和国防等重要领域，也正悄悄步入每一个寻常的家庭中。这是由于，在米粒大的硅片上，可以集成上数万个晶体管，从而是整块硅片具有惊人的计算能力，也具有神话般的存储能力，从而辅助各种工作器件进行计算工作。尤其是现在主流的硅片，在其小巧的体积上可以集成15.6万个晶体管，这便是多学科协同努力的结晶，也是科学技术进步硅片制造过程的又一个里程碑。

无蜡抛光操作台是为硅片在单面抛光机进行抛光时手动贴付硅片和剥离硅片使用的。目前对于使用单面抛光机进行无蜡抛光在贴付和剥离时只是采用一个平坦的台面进行。这种方法有三种不足之处：

(1)在进行手动贴付的时候需要使用水枪进行冲洗，会导致水溅到操作者及周围；

(2)在剥离的时候无法进行淋洗，导致硅片表面有研磨剂残留影响硅片的质量；

(3)现有做法对操作者操作极为不便，容易造成硅片表面伤等不良。

实用新型内容

本实用新型针对现有操作台使用单面抛光机进行抛光时所存在的缺陷，而提供一种新型的无蜡抛光操作台，该操作台能够在使用单面抛光机进行无蜡抛光时减少因操作带来的不良，并减少操作时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下的技术方案：

一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一侧设置有第一旋转台，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。

所述操作台主体的台面上设置外侧挡板，所述外侧挡板分布在所述淋洗管道的外侧。

所述操作台还包括工具抽屉，所述工具抽屉设置在所述操作台主体台面的下方。

所述操作台主体上设置有可刹静音轮。

本实用新型只需在硅片抛光加工时加以使用，便能够大大减少使用单面抛光机进行硅片的传统无蜡抛光时，因操作的不便所带来的影响到硅片加工质量的问题，并可以有效减少操作时间，提高加工的效率，同时具有方便快捷、易于实施的特点。

使用本无蜡抛光操作台后，在硅片进行手动贴付和剥离时能够减少手动操作步骤，从而减少划伤污迹等不良的产生，同时使操作变的简便。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本实用新型。

图1为本实用新型的俯视图；

图2为本实用新型的平视图；

图3为本实用新型的侧视图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

参阅图1，本实用新型提供的无蜡抛光操作台的结构，其主要由操作台主体1，第一旋转台2，第二旋转台3，两个可转动定位端子4、5，淋洗管道6，外侧挡板7组成。

其中操作台主体1用于承载所有设备的一个支架，其上的台面分为两部分，第一部分1a为平面，该平面上设置有第一旋转台2，从而形成操作台的贴付部分，用于抛光。

参见图3，操作台主体1台面的第二部分1b为一斜面，其上设置有第二旋转台3。同时，淋洗管道6沿斜面的高端设置，其上开设有进水口8。两个可转动定位端子4、5对称设置在该斜面上，并与第二旋转台3相配合。在斜面的低端处开设有排水口9，这便于水及时排出。

通过上述技术方案形成操作台的剥离部分。

进一步，本实用新型在操作台主体1的台面上设置有外侧挡板7，以便阻止水的溅出。

参见图2，本实用新型在操作台主体1上设置有放置操作工具的工具抽屉10，其位于台面的下方。

为了便于操作台的移动，本实用新型在操作台主体1上设置可刹静音轮11。

由上述技术方案形成的无蜡抛光操作台分为左右2个部分，右边是进行抛光的，左边是进行剥离的，抛光边是水平的一个平面，而剥离面是一个向里倾斜的斜面。

本实用新型在使用时，操作台主体1是承载所有设备的一个支架，第一旋转台2是实施贴付抛光的主要设备，贴付时陶瓷板放置在第一旋转台2上，通过转动第一旋转台2，作业者把硅片逐枚贴付在陶瓷板载具上。