[实用新型]用于化学气相沉积设备中的气体墙结构无效

专利信息
申请号: 201020547566.3 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN201826013U 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 王国斌;朱建军;邱凯;张永红 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215125 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 化学 沉积 设备 中的 气体 结构
【权利要求书】:

1.一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述气体墙结构包括外管(2)和内管,内管设置在外管内腔中,且内管外壁和外管内壁之间留有均匀间隙,该间隙与设置在外管上的一个以上进气口(1)连通,所述内管上沿轴向还分布复数个连通内管内腔和所述均匀间隙的气隙结构;

其中,每一气隙结构包括沿周向均匀分布的两个以上进气缝隙(4)、一环形延伸壁(7)和一环形导流壁(6),所述延伸壁(7)和导流壁(6)沿进入该气隙结构的气流运动方向依次分布在内管内腔中,所述延伸壁(7)一端固定在内管内壁上,另一端盖过进气缝隙(4),并与进气缝隙(4)、内管内壁共同构成气流通道,所述导流壁(6)为设置在内管内壁上的环形倾斜面,该倾斜面自其靠近进气缝隙(4)的一端起向内管中心处倾斜。

2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述延伸壁(7)另一端位于进气缝隙(4)和导流壁(6)之间。

3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述进气口(1)为一个,其设置在外管(2)的中部。

4.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述进气口(1)为两个以上,其均匀分布在外管(2)上。

5.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述进气口(1)为一个,其设置在外管(2)的一侧,且沿气流运行方向,外管与内管之间的间隙逐渐减小。

6.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述内管包括复数个内部单元管(3),相邻两个内部单元管按照首尾相接的方式依次排布,且每一内部单元管(3)首端部沿周向均匀设置二个以上进气缝隙(4),尾端部设置延伸壁(7),且进气缝隙(4)与延伸壁之间的管体内壁上设置导流壁(6)。

7.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述每一内部单元管(3)的首端部设置内螺纹(5),尾端部设置外螺纹(8),相邻两个内部单元管(3)的首端部与尾端部以所述内螺纹(5)和外螺纹(8)固定组接。

8.根据权利要求1或6所述的用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,其特征在于:所述的进气缝隙(4)为条状或带状。

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