[实用新型]一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及冶金铸坯检验技术领域中的铸坯试样自动抛光装置，尤其涉及一种可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘。

背景技术

在专利CN 1031671A“金相试样抛光机”中，涉及一种金相试样抛光机，它由磨盘、试样夹持盘、压力调节器所组成。

在专利CN 1033955A“金相试样磨光、抛光电磁吸盘”中，涉及一种能够对不同外形和大小的金相试样，不要镶嵌，就可对多只试样同时进行磨光或抛光的电磁吸盘装置。所不同的特征是试样与盘之间的正压力是由磁场提供的，是一个电磁吸盘装置。

在铸坯枝晶检验、弱冷酸蚀检验中，要求对被检验铸坯截面进行抛光处理，由于检验的试样受检面积大，重量重，表面抛光精度要求高。因此，与常规微观试样抛光相比，其抛光盘与试样表面接触面积相应较大，在抛光时，采用常规的人工侧面加抛光液的方法进行抛光，操作中很难保证抛光液在整个抛光盘的工作面上持续存在，因此试样容易出现磨面过热或焦糊的问题。为避免这一现象的发生，经常需要间歇的停下来，人为调整抛光盘与试样面的相对位置，让抛光液流至抛光盘的工作面。这样，大大降低了自动抛光机的工作效率。

实用新型内容

为克服现有装置存在的上述缺陷，本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种在金属铸坯凝固组织检验中，具有自动连续导流抛光液功能的可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，从而替代笨重的手工操作，抛光效率高，操作简便。

本实用新型通过下述技术方案予以实现：

可自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘包括金属基盘和与金属基盘中心连接的抛光盘主轴，其特征在于：金属基盘下表面连接上缓冲层上表面，上缓冲层下表面与上粘接层上表面连接，上粘接层下表面与下粘接层上表面连接，下粘接层下表面与下缓冲层上表面连接，下缓冲层下表面与抛光织物层上表面连接，金属基盘、上缓冲层、上粘接层、下粘接层、下缓冲层和抛光织物层带有相互对应连接的多个抛光液流入孔，抛光液导流管插入到各个抛光液流入孔，直达抛光织物层的下表面。

抛光液流入孔与抛光织物层之间相互成50-60度角。

使用自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘时，将由上粘接层、上缓冲层、金属基盘、抛光盘主轴相互连接成一体的上半部分与由下粘接层、下缓冲层、抛光织物层相互连接成一体的下半部分通过上粘接层与下粘接层接触粘接成一个整体。将抛光盘主轴与抛光机主轴连接，用于对金属铸坯表面进行抛光处理。在对金属铸坯表面抛光时，金属基盘用于对所抛光金属铸坯表面均匀施加压力，以利抛光。上缓冲层和下缓冲层可均匀缓冲抛光时金属基盘对金属铸坯表面的抛光压力，同时校正金属基盘下表面与被抛光金属铸坯表面的面不平行度，避免受力不均和抛光时产生振颤。上粘接层与下粘接层可以实现上下两部分的连接与分离，分离后，可根据需要更换不同要求的抛光织物，更换后，再通过上粘接层与下粘接层将上下两部分粘接成一个整体。自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘上方的抛光液通过插在抛光液流入孔中的抛光液导流管流入到抛光织物层上所在的铸坯表面，在旋转力的驱动下抛光液透过抛光织物层向四周均匀扩散，起到润滑摩擦抛光的作用。

本实用新型的自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘，可适用于铸坯凝固组织检验过程中对铸坯表面进行大面积连续抛光处理，该装置具有自动输送抛光液的功能，可实行自动控制操作，抛光压力均匀可控，抛光液可自动注入到被抛光试面中心所在区域，再均匀散开，避免了由于抛光液加入不及时而造成抛光面局部过热或焦糊的现象，抛光效率高，效果好，操作简便，具有自动校正适应抛光盘与被抛光金属铸坯表面的面不平行度功能，可避免受力不均产生的振颤。上下两部分可根据工艺要求实现分离与连接，可根据不同金属铸坯检验的要求。随时更换不同要求的抛光织物，满足了不同检验要求的不同光洁度抛光操作。确保铸坯自动抛光操作的顺行。

附图说明

图1自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘示意图；

图2抛光液流入孔示意图；

其中，1抛光盘主轴，2金属基盘，3上缓冲层，4上粘接层，5下粘接层，6下缓冲层，7抛光织物层，8抛光液流入孔，9抛光液导流管。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明：

如图1所示，自动输送抛光液的铸坯试样抛光盘由抛光盘主轴1金属基盘2、上缓冲层3、上粘接层4、下粘接层5、下缓冲层6、抛光织物层7、抛光液流入孔8、抛光液导流管9组成。