[实用新型]口腔科用小型等离子体镀膜装置无效
| 申请号： | 201020293565.0 | 申请日： | 2010-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN201850306U | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 郭天文;佟宇;弥谦;梁海锋 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第四军医大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;A61C13/08;A61C8/00 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 710032 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 口腔科 小型 等离子体 镀膜 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种口腔科用小型等离子体镀膜装置，其特征在于：在真空室(12)中设置有工件架(1)、阴极底盘(2)、热丝(13)、热电偶(4)、钛离子源(7)和阳极板(10)，其中，阴极底盘(2)设置在工件架(1)的下方，阴极底盘(2)的绝缘轴向下伸出真空室(12)与高电压(3)的阴极连接，高电压(3)的阳极与真空室(12)的壳体连接，阳极板(10)设置在工件架(1)的上方，阳极板(10)与热丝电压(11)的阳极、真空室(12)的壳体同时连接；与工件架(1)的高度相当的位置设置有热丝(13)、热电偶(4)和钛离子源(7)，热丝(13)与热丝电流(6)连接；真空室(12)还连通有氮气源、氩气源、氨气源和真空装置(9)。
2.根据权利要求1所述的口腔科用小型等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的氮气源、氩气源、氨气源和真空装置(9)管路上分别设置有阀门。
3.根据权利要求1所述的口腔科用小型等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的热电偶(4)与对应配置的热电偶电源(5)连接，钛离子源(7)与对应配置的离子源电源(8)连接，热丝电流(6)的阴极、热丝(13)同时与热丝电压(11)的阴极连接。
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