[实用新型]双面曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光装置，特别是涉及一种双面曝光装置。 

背景技术

一般用以对电路板进行双面曝光的曝光机中，包括台框机构，且台框机构具有上曝光底片与下曝光底片，待曝光的电路板是放置在上曝光底片与下曝光底片之间，接着再通过上曝光光源与下曝光光源分别对电路板的顶面与底面进行曝光，如中国台湾实用新型专利公告号559438所公开的内容。 

此外，一般双面曝光机会在台框机构的下方设置一组取像装置(包含CCD摄影机)，当待曝光的电路板放置在台框机构上并且在送入曝光室进行曝光之前，通过该取像装置可取得待曝光基板底面与下曝光底片之间的位置误差，进而进行误差校正，然而，由于待曝光基板的顶面与上曝光底片之间以往并没有取像装置可进行取像以供后续校正，因此，待曝光基板的顶面的曝光精度通常较差。 

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种可提高待曝光基板的两面曝光精度的双面曝光装置。 

其技术方案如下： 

一种双面曝光装置，包含： 

机台； 

曝光模组，设置于该机台内，用以对待曝光基板曝光； 

台框模组，包括设置于该机台的台框本体以及设置于该台框本体的上底片与下底片，该台框模组用以供该待曝光基板放置于该上底片与该下底片之间并且受驱动位移至第一位置以及对应该曝光模组的第二位置； 

第一取像模组，包括多个取像单元，该当该台框模组处于该第一位置时，取像单元用以取得该待曝光基板与该台框模组的下底片的位置影像；以及 

第二取像模组，包括多个取像单元，当该台框模组处于该第二位置时，该取像单元用以取得该待曝光基板与该台框模组的上底片的位置影像。 

进一步结构是： 

该第二取像模组更包括多个位移机构，该取像单元分别设置于该位移机构，每一取像单元能受该位移机构驱动沿X轴、Y轴与Z轴方向位移。 

该第二取像模组更包括设置于该机台的框架，该位移机构与该取像单元设置于该框架。 

还包含设置于该机台的导轨机构，该台框模组设置于该导轨机构并且能沿该导轨机构位移于该第一位置与该第二位置，该第一取像模组位于该导轨机构下方，该第二取像模组位于该导轨机构上方。 

该机台包括曝光室以及位于该曝光室前方的操作侧，当该台框模组位于该第一位置时，位于该操作侧，当该台框模组位于该第二位置时，位于该曝光室内，该第一取像模组位于该操作侧，该第二取像模组位于该曝光室内。 

该第一取像模组的取像单元与该第二取像模组的取像单元为CCD摄影机。 

本实用新型的功效在于，利用第一取像模组配合第二取像模组，不只能取得对待曝光基板底面与台框模组的下底片之间的位置影像以便于进行误差校正，也能取得待曝光基板顶面与台框模组的上底片之间的位置影像以便于进行误差校正，进而提高整个待曝光基板的曝光精度。 

附图说明

图1是本实用新型所述双面曝光装置的一个较佳实施例的立体图； 

图2是该较佳实施例的侧视图； 

图3是该较佳实施例的立体图，且该双面曝光装置的机台被局部移除而能显示出第一取像模组与第二取像模组； 

图4是图3中的第一取像模组位置的局部放大图； 

图5是该较佳实施例的第二取像模组的前视图； 

图6是该第二取像模组的立体图。 

附图标记说明： 

1、机台，101、前后方向，11、曝光室，12、操作侧，13、光源室，2、导轨机构，21、导轨，3、台框模组，31、台框本体，311、框体，4、第一取像模组，41、框架，42、位移机构，421、马达，422、滑轨滑块组，423、滚珠导螺杆，43、取像单元，5、第二取像模组，51、框架，52、位移机构，521、马达，522、滑轨滑块组，523、滚珠导螺杆，53、取像单元。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明： 

参阅图1与图2，一种双面曝光装置，包含机台1以及设置在机台1的曝光模组(图未示)、导轨机构2、二台框模组3、第一取像模组4、第二取像模组5。