[实用新型]足底按摩理疗装置无效
申请号: | 201020250983.1 | 申请日: | 2010-07-07 |
公开(公告)号: | CN201701473U | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 阮鹏 | 申请(专利权)人: | 阮鹏 |
主分类号: | A61H39/04 | 分类号: | A61H39/04 |
代理公司: | 成都市辅君专利代理有限公司 51120 | 代理人: | 杨海燕 |
地址: | 610500 四川省成都市新*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 足底 按摩 理疗 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于一种足底按摩理疗装置。
背景技术
足底穴位丰富,按摩有益健康,帮助睡眠,且见效快。但一般的带弹性或柔性的按摩鞋或其他按摩设备中弹簧或柔性设备仅仅起缓冲作用,目的是避免用力过大、刺激过度造成伤害。目前还没有一种能利用人体自身重量和运动过程产生的能量对足底进行自动按摩理疗的装置。
目前市场上有一种圆珠笔,其有伸缩机构。伸缩机构由三个环状齿轮、中心轴、按钮、弹簧等组成;弹簧在中心轴下方适当固定,当给外力按下按钮时,按钮把环齿顶上,环齿受斜面的影响向下一齿滑落,弹簧压缩,如此不断循环。伸缩机构的工作原理为:按下按钮时,弹簧压缩,当齿轮再次被按下,弹簧被放开,弹回。这种伸缩机构已是公知技术。
发明内容
本实用新型公开了一种能利用人体自身重量和运动过程产生的能量对足底进行自动按摩理疗的装置,本实用新型通过以下技术方案实现:
足底按摩理疗装置,包括环状齿轮、中心轴、按钮和弹簧构成的按摩单元,其特征是:每个按摩单元通过最外部环状齿轮固定在同一平面上,每个按摩单元最外部环状齿轮与相邻按摩单元最外部环状齿轮之间的距离不大于按摩单元直径。
所述由按摩单元构成的足底按摩理疗装置是一平面,该平面随着按摩单元数量的增加可延伸。
所述足底按摩理疗装置形成的平面是鞋底平面的几何形状。
进一步每个按摩单元直径不大于1厘米。
上述按摩单元与目前市售的圆珠笔伸缩机构原理相同,只是材料根据需要可以不同,并且为了充分吸收人体重量和运动能量,每个按摩单元通过最外部环状齿轮固定在同一平面上,每个按摩单元最外部环状齿轮与相邻按摩单元最外部环状齿轮之间的距离不大于按摩单元最大直径。固定方法可以先用塑料、橡胶或其他柔性材料制成地毯式的平面,然后将按摩单元均匀地嵌入固定;也可以将塑料在注塑成型时与按摩单元的最外部环状齿轮一起注塑成型,然后将中心轴、按钮和弹簧安装在每个最外部环状齿轮中构成;同样也可以将橡胶在成型时与按摩单元的最外部环状齿轮一起成型,然后将中心轴、按钮和弹簧安装在每个最外部环状齿轮中构成;足底按摩理疗装置可以像地毯一样生产出来,需要时通过适当的剪裁、切割,做成一条带状小路,或放于鞋底,使用者行走其上发挥按摩理疗的功效。
对每个按摩单元,当给外力按下按钮时,按钮把环齿顶上,环齿受斜面的影响向下一齿滑落,弹簧压缩,如此不断循环。工作原理为:按下按钮时,弹簧压缩,压缩过程中起到缓冲作用,被动的对足底其按摩作用,并积蓄压力。当按钮再次被按下,弹簧被放开,弹回,对足底起到主动按摩的作用。
整体按摩理疗装置,由于多个刺激点受压力的程度与时间不同,因此按摩时变化多,足底各个穴位按摩力度也有差异,例如足跟压力大,而足跟往往也是最厚的部分,其受到的按摩力也较大较多;足弓处,皮肉薄,压力小,因此按摩力度也会轻一些。各部分弹簧因势发力,合理的对足底进行主动按摩,更符合健康要求。
本实用新型的有益性:本实用新型充分利用人体自身重量和运动能量,弹性装置收集足部的压力,并循环的转化为对足底的主动按摩。主动、被动按摩相结合,更能让足底感受到按摩的乐趣,提高疗效。恰当的按摩单元分布利用足底不同的压力构成了整体有区别的按摩力,合理的对足底进行主动按摩,符合健康要求。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。
图1是现有圆珠笔伸缩装置齿轮安装结构示意图:
图2是按摩单元结构示意图:
图3是按摩单元构成按摩理疗装置局部结构示意图;
图4是本实用新型鞋底平面几何形状示意图:
图5是图4A局部按摩单元布置示意图。
图中,1是按钮,2是环形齿轮,3是弹簧,4是最外部环状齿轮,5是中心轴。
具体实施方式
图1是现有圆珠笔伸缩装置齿轮安装结构示意图。图中,1是按钮,2是环形齿轮,4是最外部环状齿轮。按钮1与最内层齿轮结合,然后与环形齿轮2、最外部环状齿轮4动配合,现有圆珠笔有市售,其结构和工作原理是现有技术。
图2是按摩单元结构示意图。其结构和工作原理与圆珠笔伸缩装置相似。图3按摩单元构成按摩理疗装置局部结构示意图,实际上将按摩单元以不同的排列方法均匀地分布,所组成的不同数量按摩单元的平面都能实现本实用新型的发明目的,只是所组成的平面大小不同,适用不同的具体需要而已。
图4是鞋底平面几何形状示意图,图5是图4A局部按摩单元布置示意图。
结合图1至图5。
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