[实用新型]用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置有效
| 申请号： | 201020250591.5 | 申请日： | 2010-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN201785484U | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 刘杰;汪明刚;夏洋;李超波;罗威;罗小晨;李勇滔 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 双腔室 结构 等离子体 浸没 离子 注入 隔板 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置，其特征在于，包括：
隔板A和隔板B，所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间，所述隔板A和隔板B相同，并可平行抽动；所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。
2.根据权利要求1所述的隔板装置，其特征在于：
所述圆孔是随机或均匀分布在所述隔板A和隔板B的中间。
3.根据权利要求2所述的隔板装置，其特征在于：
所述圆孔直径大小范围为0.1mm到1mm，所述圆孔面积占空比为5％到30％。
4.根据权利要求1所述的隔板装置，其特征在于：
所述隔板A和隔板B的厚度范围为1mm到1cm。
5.根据权利要求1所述的隔板装置，其特征在于：
所述隔板A和隔板B由聚四氟或石墨制成。
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