[实用新型]一种用于单晶硅片清洗的洗片机无效

专利信息
申请号: 201020241550.X 申请日: 2010-06-28
公开(公告)号: CN201711304U 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 李勇超 申请(专利权)人: 渭南安信电子技术有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 714009 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 单晶硅 清洗 洗片机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种清洗设备,特别涉及一种用于单晶硅片清洗的洗片机。

背景技术

单晶硅片在生产打磨好后需要清洗表面的污垢,现有的清洗设备比较传统,就是将单晶硅片放入放入水槽中冲洗。这样方式洗得很不干净,而且由于单晶硅片比较薄,很多都重叠在一起,所以每次清洗非常不方便。

发明内容

为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型的目的在于提供一种用于单晶硅片清洗的洗片机,能够将单晶硅片挂上并从各种角度清洗,能使工作效率提高,并且清洗得更加干净。

为了达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5。

由于本实用新型设置有挂架2,所以可将单晶硅片悬挂于上面;由于喷嘴组4可调节,可对悬挂于挂架2上的单晶硅片从各个角度冲洗。

附图说明

附图是本实用新型的结构原理图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作详细叙述。

参照附图,一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,用于悬挂单晶硅片,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5,冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。

本实用新型的工作原理为:将单晶硅片悬挂于挂架2上,水通过水管3从喷嘴组中喷出,喷嘴组的方向可调,可根据清洗要求调整喷水的方向。冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。

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