[实用新型]一种用于单晶硅片清洗的洗片机无效
申请号: | 201020241550.X | 申请日: | 2010-06-28 |
公开(公告)号: | CN201711304U | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 李勇超 | 申请(专利权)人: | 渭南安信电子技术有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 714009 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 单晶硅 清洗 洗片机 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种清洗设备,特别涉及一种用于单晶硅片清洗的洗片机。
背景技术
单晶硅片在生产打磨好后需要清洗表面的污垢,现有的清洗设备比较传统,就是将单晶硅片放入放入水槽中冲洗。这样方式洗得很不干净,而且由于单晶硅片比较薄,很多都重叠在一起,所以每次清洗非常不方便。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型的目的在于提供一种用于单晶硅片清洗的洗片机,能够将单晶硅片挂上并从各种角度清洗,能使工作效率提高,并且清洗得更加干净。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5。
由于本实用新型设置有挂架2,所以可将单晶硅片悬挂于上面;由于喷嘴组4可调节,可对悬挂于挂架2上的单晶硅片从各个角度冲洗。
附图说明
附图是本实用新型的结构原理图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作详细叙述。
参照附图,一种用于单晶硅片清洗的洗片机,包括一工作台1,工作台1上设置有至少一排挂架2,用于悬挂单晶硅片,在挂架2的下方设置有水管3,每两根水管3中间的正上方是挂架2,在水管3上设置有可调节的喷嘴组4,喷嘴组4的下方设置有排水槽5,冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。
本实用新型的工作原理为:将单晶硅片悬挂于挂架2上,水通过水管3从喷嘴组中喷出,喷嘴组的方向可调,可根据清洗要求调整喷水的方向。冲洗的水通过排水槽5排到工作台1的下水道中。
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