[实用新型]24对棒多晶硅还原炉有效

专利信息
申请号: 201020215600.7 申请日: 2010-06-04
公开(公告)号: CN201785197U 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 王姗 申请(专利权)人: 成都蜀菱科技发展有限公司
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610015 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 24 多晶 还原
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种生产多晶硅用的还原炉,特别是一种以提高单炉的产量和降低能耗为目的大对棒数多晶硅还原炉。

背景技术

多晶硅还原炉是生产多晶硅原料的关键设备,同时又是一个高耗能的设备。因此,还原炉的设计和制造,直接影响到产品的产量、质量和生产成本。随着多晶硅市场的竟争日趋激烈,要求多晶硅生产必须做到充分利用生产资料,提高生产效率、降低生产成本。因此,开发大对棒数还原炉为多晶硅生产企业提高产量、质量、节省投资显得尤为重要。

现有的多晶硅还原炉结构由底盘、炉体组成,炉子主体采用不锈钢材料。底盘上设置电极、进气口和还原尾气排气口。从节能降耗、提高生产效率、降低生产成本考虑,其单炉产量有待进一步提高。

发明内容

本实用新型的目的是为了提高产品的产量和质量,对现有多晶硅还原炉底盘和炉体的冷却腔的结构和尺寸进行优化设计,设计一种提高多晶硅的产量和降低能耗,降低多晶硅生产的成本的高产多晶硅还原炉。

本实用新型的结构特点实现了上述设计目的。本实用新型是一种24对棒多晶硅还原炉,由底盘和炉体构成,在炉体和底盘上设有冷却水腔和冷却水进出水口,底盘上配有电极、进气口和排气口,底盘与炉体采用紧固件连接,其特征在于:还原炉内壁有一层厚度为2-3mm的光滑的银层,底盘上有24对用于生成硅棒的电极。

上述设置的24对电极在底盘上分三圈在360°上均布:内圈4对电极,中圈8对电极,外圈为12对电极,底盘上位于内圈和中圈电极之间在相距180°设置2个进气喷嘴,中圈电极与外圈电极之间360°上均匀分布4个进气喷嘴,底盘中心设有还原尾气的排气口。

本实用新型由于采用了在炉子底盘上采用大对数电极、在还原炉内壁设置光滑的银层,均匀设置多个进气喷嘴,使多晶硅还原炉中反应时的供料气体分布更均匀,反应更充分,多晶硅棒数量更多,并利用银的化学特性和良好的加工性,以及抛光后的镜面效果,显著提高了反应效率和单炉产量,在生产出纯度更高的多晶硅产品的同时,大幅度降低了能耗,从而大大降低了多晶硅的生产成本。

附图说明

图1是本24对棒多晶硅还原炉的外观示意图。

图2是炉子底盘电极、进气喷嘴和排气口分布示意图。

实施例1

如图所示,本实用新型是一种高产24对棒多晶硅还原炉,由底盘9和炉体5构成,底盘与炉体采用法兰盘8连接。炉体5上设有冷却水腔夹套7,在底盘9上也设有冷却水夹套,夹套上设有冷却水进出口。炉体上设有9个用于观察和测量温度的视孔4,分上、中、下三层120°均布;还原炉内壁有一层光滑的银层3,厚度2-3mm。底盘上设置有24对电极10在底盘上分三圈分布:内圈为4对电极,中圈为8对电极,外圈为12对电极;炉子下部有进气管道2与底盘上的6个进气喷嘴11连通,6个进气喷嘴在底盘上的分布是内圈与中圈之间相距180°设置2个喷嘴,中圈与外圈之间360°均匀分布4个喷嘴,底盘中心设有还原尾气的出气口1。

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